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J-GLOBAL ID：200903001371609379
露光用マスク
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996001626
Publication number (International publication number)：1997189990
Application date： Jan. 09, 1996
Publication date： Jul. 22, 1997
Summary：
【要約】【課題】 露光光照射に対する位相シフト膜の透過率・位相差の変動を抑制し、マスクの光学特性の変化を抑制する。【解決手段】 透明基板401上に位相シフト膜402からなるパターンを有する露光用マスクにおいて、位相シフト膜402は、露光光照射によって光学定数に変化が生じるSiNに、露光光照射によって屈折率,消衰係数に関する増減がSiNとは相反する方向に変化するTiを添加することで形成されている。
Claim (excerpt)：
透光性基板上に少なくとも位相シフト膜からなるパターンを有する露光用マスクにおいて、前記位相シフト膜は、露光光照射によって光学定数に変化が生じる第1の物質に、前記露光光照射によって第1の物質とは異なる光学定数変化が生じる第2の物質を添加又は混合して形成されてなることを特徴とする露光用マスク。
IPC (2)：
FI (3)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
