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J-GLOBAL ID:200903001475650168

アクティブマトリクス基板及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 外川 英明
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001208723
Publication number (International publication number):2003022033
Application date: Jul. 10, 2001
Publication date: Jan. 24, 2003
Summary:
【要約】【課題】 アクティブ素子を転写する際に、アクティブ素子の転写先基板面からの高さの制御が可能で、接着層を介してもアクティブ素子と転写先基板とが略平行となるようなアクティブマトリクス基板及びその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明は、基板401と、基板401上に実質的に等しい高さで設けられる複数の接着層と、各々の接着層上に設けられる複数のアクティブ素子301と、を具備し、夫々の接着層が、高さ制御部材402と、接着剤403とを含むことを特徴とするアクティブマトリクス基板を提供する。
Claim (excerpt):
基板と、前記基板上に実質的に等しい高さで設けられる複数の接着層と、各々の前記接着層上に設けられる複数のアクティブ素子と、を具備し、夫々の前記接着層が、高さ制御部材と、接着剤とを含むことを特徴とするアクティブマトリクス基板。
IPC (10):
G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 348 ,  G09F 9/30 365 ,  G02F 1/1368 ,  G09F 9/00 338 ,  G09F 9/00 342 ,  G09F 9/35 ,  H01L 21/336 ,  H01L 27/12 ,  H01L 29/786
FI (9):
G09F 9/30 338 ,  G09F 9/30 348 A ,  G09F 9/30 365 Z ,  G02F 1/1368 ,  G09F 9/00 338 ,  G09F 9/00 342 Z ,  G09F 9/35 ,  H01L 27/12 B ,  H01L 29/78 627 D
F-Term (68):
2H092GA55 ,  2H092GA57 ,  2H092HA27 ,  2H092JA24 ,  2H092JA46 ,  2H092KB22 ,  2H092KB25 ,  2H092NA19 ,  2H092NA25 ,  5C094AA14 ,  5C094AA42 ,  5C094AA43 ,  5C094BA03 ,  5C094BA27 ,  5C094BA43 ,  5C094CA19 ,  5C094DA15 ,  5C094EA04 ,  5C094EA07 ,  5C094FB06 ,  5C094FB15 ,  5F110AA28 ,  5F110BB02 ,  5F110BB05 ,  5F110CC01 ,  5F110CC02 ,  5F110DD01 ,  5F110DD02 ,  5F110DD12 ,  5F110DD14 ,  5F110DD17 ,  5F110DD30 ,  5F110EE06 ,  5F110EE44 ,  5F110FF02 ,  5F110FF29 ,  5F110GG02 ,  5F110GG13 ,  5F110GG25 ,  5F110HJ01 ,  5F110HJ04 ,  5F110HJ12 ,  5F110HJ13 ,  5F110HL02 ,  5F110HL04 ,  5F110HL06 ,  5F110HL11 ,  5F110HM15 ,  5F110NN02 ,  5F110NN03 ,  5F110NN22 ,  5F110NN23 ,  5F110NN24 ,  5F110NN27 ,  5F110NN35 ,  5F110NN72 ,  5F110NN73 ,  5F110PP01 ,  5F110QQ11 ,  5F110QQ16 ,  5G435AA17 ,  5G435BB05 ,  5G435BB12 ,  5G435CC09 ,  5G435HH14 ,  5G435KK05 ,  5G435KK09 ,  5G435KK10
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (10)
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