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J-GLOBAL ID：200903001484098656

任意で水素化されたニトリルゴムからルテニウム含有触媒残渣を除去するための方法

Inventor：
クリストファー・オング

About クリストファー・オング

, 
フランツ-ヨーゼフ・メルスマン

About フランツ-ヨーゼフ・メルスマン


Applicant, Patent owner：
ランクセス・ドイチュランド・ゲーエムベーハー

About ランクセス・ドイチュランド・ゲーエムベーハー


Agent (4)： 志賀 正武 ,  渡邊 隆 ,  村山 靖彦 ,  実広 信哉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008324624
Publication number (International publication number)：2009149894
Application date： Dec. 19, 2008
Publication date： Jul. 09, 2009
Summary：
【課題】任意で水素化されたニトリルゴムからルテニウム含有触媒残渣を除去するための方法を提供する。【解決手段】ルテニウム含量が非常に低いことによって特徴付けられる新規の任意で水素化されたニトリルゴムと、特定の官能化イオン交換樹脂を使用することによって、任意で水素化されたニトリルゴムの溶液からルテニウム含有触媒残渣を除去するための方法とが提供される。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
ルテニウム含有触媒残渣を含有する任意で水素化されたニトリルゴムの溶液を官能化イオン交換樹脂で処理することを含む、任意で水素化されたニトリルゴムからルテニウム含有触媒残渣を除去するための方法であって、 前記官能化イオン交換樹脂が、(i)マクロレティキュラーであり、(ii)第1級アミン、第2級アミン、チオール、カルボジチオアート、チオ尿素およびジチオカルバマート基から選択される少なくとも1種の官能基で修飾されており、そして(iii)乾燥ベースで0.2〜2.5mmの範囲の平均粒径を有することを特徴とする方法。
IPC (4)：
C08C 2/04 ,  C08F 220/42 ,  C08F 236/04 ,  C08C 19/02
FI (4)：
C08C2/04 ,  C08F220/42 ,  C08F236/04 ,  C08C19/02
F-Term (14)：
4J100AM02Q ,  4J100AS01P ,  4J100AS02P ,  4J100AS03P ,  4J100CA04 ,  4J100CA31 ,  4J100HA03 ,  4J100HA37 ,  4J100HA51 ,  4J100HC05 ,  4J100HC90 ,  4J100HD22 ,  4J100HE14 ,  4J100HE41
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (6)
  • 特開平4-290555
  • オレフィン複分解生成混合物の安定化
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願2004-546766   Applicant：ダウグローバルテクノロジーズインコーポレイティド
  • 特開平1-215726
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Cited by examiner (3)
  • 特開平4-290555
  • オレフィン複分解生成混合物の安定化
    Gazette classification：公表公報   Application number：特願2004-546766   Applicant：ダウグローバルテクノロジーズインコーポレイティド
  • 特開平1-215726

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