Pat
J-GLOBAL ID:200903001643298793
点回折干渉計、反射鏡の製造方法及び投影露光装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000039092
Publication number (International publication number):2001227909
Application date: Feb. 17, 2000
Publication date: Aug. 24, 2001
Summary:
【要約】【目的】大NAの被検物の高精度な面測定(約0.2nmrms程度の面精度が測定)が可能な点回折干渉計を提供することを目的とする。また、反射鏡の製造方法及びこの製造方法により製造された反射鏡を備えた投影露光装置を提供する。【解決手段】光源から照射された光を集光光学系を介してピンホールミラーに照射し、該ピンホールから回折した光の一部を測定用光束として被測定面に照射し、該被測定面で反射された前記測定用光束と、前記ピンホールから回折した光の他の一部である参照用光束とを互いに干渉させ、該干渉により生じる干渉縞の状態を検知することにより前記被測定面の面精度を測定する点回折干渉計であって、前記ピンホール径(直径)の範囲が、λ/2≦φPH≦λ/NAλ:前記光源から照射された光の波長、NA:前記集光光学系の開口数、φPH:前記ピンホール径であることを特徴とする点回折干渉径。
Claim (excerpt):
光源から照射された光を集光光学系を介してピンホールミラーに照射し、該ピンホールから回折した光の一部を測定用光束として被測定面に照射し、該被測定面で反射された前記測定用光束と、前記ピンホールから回折した光の他の一部である参照用光束とを互いに干渉させ、該干渉により生じる干渉縞の状態を検知することにより前記被測定面の面精度を測定する点回折干渉計であって、前記ピンホール径(直径)の範囲が、λ/2≦φPH≦λ/NAλ:前記光源から照射された光の波長、NA:前記集光光学系の開口数、φPH:前記ピンホール径であることを特徴とする点回折干渉計。
IPC (6):
G01B 9/04
, G02B 5/08
, G02B 5/18
, G02B 27/28
, G03F 7/20 503
, H01L 21/027
FI (7):
G01B 9/04
, G02B 5/08 A
, G02B 5/18
, G02B 27/28 Z
, G03F 7/20 503
, H01L 21/30 515 D
, H01L 21/30 531 A
F-Term (36):
2F064AA09
, 2F064AA13
, 2F064EE10
, 2F064FF01
, 2F064GG03
, 2F064GG04
, 2F064GG38
, 2F064GG39
, 2F064HH03
, 2F064HH08
, 2H042DA03
, 2H042DA04
, 2H042DA05
, 2H042DA07
, 2H042DA08
, 2H042DA12
, 2H042DB00
, 2H042DC02
, 2H042DE09
, 2H049AA01
, 2H049AA34
, 2H049AA50
, 2H049AA55
, 2H097AA02
, 2H097AB09
, 2H097CA15
, 2H097EA01
, 2H097GB00
, 2H097LA10
, 2H099AA00
, 2H099BA09
, 2H099CA08
, 5F046CA03
, 5F046CB03
, 5F046GB01
, 5F046GC04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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特開平2-228505
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特開平2-228505
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干渉計
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-311353
Applicant:ソニー株式会社
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移相回折干渉計
Gazette classification:公表公報
Application number:特願平8-518932
Applicant:ザリージェンツオブザユニバーシティオブカリフォルニア
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特開平2-228505
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面精度測定装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-343599
Applicant:株式会社ニコン
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