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J-GLOBAL ID:200903001726091180
分子化合物を用いた積層超構造
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (2):
蔵合 正博
, 蔵合 正博
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000085322
Publication number (International publication number):2001270027
Application date: Mar. 24, 2000
Publication date: Oct. 02, 2001
Summary:
【要約】【課題】 分子軸の配向を最適制御してデバイス特性の向上を可能にする積層超構造を提供すること。【解決手段】 個々の薄膜において分子軸の配向を最適制御した積層超構造とする。これらの積層超構造は、それぞれの薄膜において分子軸が基板に対して垂直に配列されるものと平行に配列されるものとの2種類に大別される。これによって、たとえば遷移モーメントの方向を制御することが可能になり、デバイス特性の向上を可能にする。
Claim (excerpt):
異なる2種類あるいはそれ以上の分子化合物からなり、それぞれの分子化合物を構成する分子の分子軸が基板に垂直に配向する薄膜からなる積層超構造。
IPC (5):
B32B 9/00
, G02B 5/30
, H05B 33/10
, H05B 33/14
, C09K 11/06 635
FI (5):
B32B 9/00 Z
, G02B 5/30
, H05B 33/10
, H05B 33/14 B
, C09K 11/06 635
F-Term (25):
2H049BA08
, 2H049BA46
, 2H049BB62
, 2H049BC21
, 3K007AB03
, 3K007AB04
, 3K007EB00
, 3K007FA01
, 4F100AH01A
, 4F100AH01B
, 4F100AH04A
, 4F100AH04B
, 4F100AH07A
, 4F100AH07B
, 4F100AR00A
, 4F100AR00B
, 4F100BA02
, 4F100BA10A
, 4F100BA10B
, 4F100BA13
, 4F100GB90
, 4F100JA20A
, 4F100JA20B
, 4F100JM02A
, 4F100JM02B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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単分子膜の製造方法及び単分子累積膜の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-052446
Applicant:株式会社東芝
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配向分子薄膜
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-156601
Applicant:住友化学工業株式会社
Article cited by the Patent:
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