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J-GLOBAL ID：200903001780614678
レーザー照射装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995021011
Publication number (International publication number)：1996195357
Application date： Jan. 13, 1995
Publication date： Jul. 30, 1996
Summary：
【要約】【目的】 レーザー光の照射に従う効果、例えばレーザー光の照射に従う半導体へのアニール効果を均一なものとする。【構成】 エキシマレーザーの照射エネルギーを測定し、常に一定のエネルギーで照射が行われるように調整する。光学系4から出て、ミラー9で反射されたレーザー光は試料11に照射される。この際、ミラー9の直後にビームプロファイラーを配置し、照射されるレーザー光のエネルギーを計測する。そして、この計測値を基にミラー8と光学系4との間に配置されたエネルギー減衰装置を作動させ、試料11に照射されるエネルギーを一定なものとなるように調整する。
Claim (excerpt)：
エキシマレーザーにエネルギー測定装置をつけたことを特徴とするレーザー照射装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (8)
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