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J-GLOBAL ID：200903001821646741

遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor：
佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998187597
Publication number (International publication number)：2000019737
Application date： Jul. 02, 1998
Publication date： Jan. 21, 2000
Summary：
【要約】【課題】 250nm以下、特に220nm以下の露光光源の使用時に、良好な感度、解像度及びレジストパターンを与え、かつこの組成物を有機溶媒に溶解後の塗液の保存安定性が優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、(B)分子鎖の少なくとも一方の末端に、特定の構造式で表される基を有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性が増大する樹脂とを含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物と、(B)分子鎖の少なくとも一方の末端に下記構造式(1)で表される基を有する、酸の作用により分解してアルカリ現像液中での溶解性が増大する樹脂とを含有することを特徴とする遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物。-X-R (1)(式中、Xは-R1 -、-S-R1 -、-O-R1 -、-NH-R1 -、-NR2 -R1 -、Rはアルコキシ基、水酸基、-COO-R2 、-CONH-R2 、-CONHSO2 -R2 、-CONH2 、R1 は炭素数1〜20の2価の炭化水素基、R2 はアルキル基を示す。)
IPC (4)：
G03F 7/039 601 ,  C08L101/00 ,  C09D201/00 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F 7/039 601 ,  C08L101/00 ,  C09D201/00 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (32)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43 ,  2H025CB45 ,  4J002BF011 ,  4J002BG041 ,  4J002BG071 ,  4J002BG131 ,  4J002BH021 ,  4J002BK001 ,  4J002EV216 ,  4J002EV236 ,  4J002EV296 ,  4J002GP03 ,  4J038CG141 ,  4J038CH071 ,  4J038EA011 ,  4J038GA03 ,  4J038GA09 ,  4J038GA13 ,  4J038KA04 ,  4J038PA17 ,  4J038PB09
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (1)

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