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J-GLOBAL ID:200903001880740042
洗浄装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐藤 強
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000164428
Publication number (International publication number):2001340816
Application date: Jun. 01, 2000
Publication date: Dec. 11, 2001
Summary:
【要約】【課題】 二酸化炭素がドライアイスとなって洗浄できる洗浄範囲を広くできて、洗浄効率の向上を図るようにする。【解決手段】 ノズル2に、先端部に開口部11を有する中空状の制御カバー7を装着する。開口部11は偏平な矩形状とし、カバー本体部10には外方へ膨出する膨張制御室12を形成し、開口部11の長手方向の両側部には切り込み部13を形成する。ノズル2の吐出口5から噴射された二酸化炭素の圧力、速度、方向及び噴射形状などの噴射形態が制御カバー7にて制御され、これにより開口部11から噴射される二酸化炭素がドライアイスになる領域を多くできるようになる。このため、洗浄に寄与するドライアイスとなる範囲を大きくすることが可能となり、1工程で洗浄できる洗浄範囲を大きくでき、洗浄効率を向上できるようになる。
Claim (excerpt):
ノズルの吐出口から液体二酸化炭素を被洗浄物に向けて噴射させ、その液体二酸化炭素の微粒子化したドライアイスにより前記被洗浄物を洗浄する構成とした洗浄装置において、前記ノズルに、先端部に開口部を有し前記吐出口から噴射された二酸化炭素の噴射形態を制御する中空状の制御カバーを設けたことを特徴とする洗浄装置。
IPC (4):
B08B 3/02
, G02F 1/13 101
, H01L 21/304 643
, H01L 21/304
FI (4):
B08B 3/02 G
, G02F 1/13 101
, H01L 21/304 643 C
, H01L 21/304 643 Z
F-Term (9):
2H088EA02
, 2H088FA21
, 2H088FA30
, 2H088MA20
, 3B201AA02
, 3B201AA03
, 3B201BA06
, 3B201BA38
, 3B201BB32
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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