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J-GLOBAL ID：200903001937509377

グレイスケールマスク、光学素子、空間光変調装置及びプロジェクタ

Inventor：
水迫 和久

About 水迫 和久

, 
上島 俊司

About 上島 俊司


Applicant, Patent owner：
セイコーエプソン株式会社

About セイコーエプソン株式会社


Agent (3)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005269720
Publication number (International publication number)：2007079371
Application date： Sep. 16, 2005
Publication date： Mar. 29, 2007
Summary：
【課題】光透過率が段階的に変化するように分布することによる段形状の形成を回避でき、レジスト形状を正確に形成することが可能なグレイスケールマスク等を提供すること。【解決手段】所望のレジスト形状に対応させてそれぞれ光透過率が設定された複数の単位セル21を備え、単位セル21は、光を透過させる開口部23と、光を遮断させる遮光部22とを有し、単位セル21に占める開口部23の面積の割合である面積開口率によって光透過率が決定され、レジスト形状を形成させるレジスト層60のうち一の単位セル21からの直接光が入射する領域ARへ、一の単位セル21の周辺の単位セル21からの回折光Lを入射させてレジスト形状を形成させるような範囲の面積開口率を有する。【選択図】 図6
Claim (excerpt)：
所望のレジスト形状に対応させてそれぞれ光透過率が設定された複数の単位セルを備え、 前記単位セルは、光を透過させる開口部と、光を遮断させる遮光部とを有し、前記単位セルに占める前記開口部の面積の割合である面積開口率によって前記光透過率が決定され、 前記レジスト形状を形成させるレジスト層のうち一の単位セルからの直接光が入射する領域へ、前記一の単位セルの周辺の単位セルからの回折光を入射させて前記レジスト形状を形成させるような範囲の前記面積開口率を有することを特徴とするグレイスケールマスク。
IPC (2)：
G03F 1/08 ,  G02B 3/00
FI (2)：
G03F1/08 A ,  G02B3/00 A
F-Term (3)：
2H095BA12 ,  2H095BB02 ,  2H095BB36
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (2)

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