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J-GLOBAL ID：200903029140795813

三次元構造体の製造方法

Inventor：
梅木 和博

About 梅木 和博

, 
半田 卓也

About 半田 卓也


Applicant, Patent owner：
リコー光学株式会社

About リコー光学株式会社


Agent (1)： 野口 繁雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001282150
Publication number (International publication number)：2003091066
Application date： Sep. 17, 2001
Publication date： Mar. 28, 2003
Summary：
【要約】【課題】 パターンのシャープネスを向上させるとともに、滑らかな表面形状とする。【解決手段】 基板上にポジ型レジスト材料を塗付し、プリベークした。次いで、液晶用微小寸法MLA製作の濃度分布マスクレチクルを用い、ステッパー装置でジャストフォーカス露光を行なった。露光後、PEBを実施し、次いで現像、リンスを行なった。次いで、プリ・ポストベークを行ない、その後、加熱処理をしてレジスト材料の表面凹凸を僅かに流動させて滑らかな表面をもつ目的形状とした。レジストのハードニングを行なった後、レジストパターンをマスクとしてTCPドライエッチング装置にて基板をドライエッチングしてレジストパターンを基板に転写し、MLAを得た。
Claim (excerpt)：
感光性材料が塗布された基板上に露光マスクを介して露光し、現像・リンスしてその感光性材料に三次元構造パターンを形成した後、その感光性材料パターンを硬化させ、それをマスクとしてドライエッチング法で前記基板にパターンを転写して三次元構造体を形成する方法において、前記露光マスクは光遮光部分の面積を決定するように光透過部分が多段階に分解されたパターンをもつ複数の単位セルを備えており、前記感光性材料として前記単位セル内のパターンが凹凸形状として転写される高感度な感光性材料を使用し、現像・リンス後の前記感光性材料パターンとして三次元の全体構造の表面にマスクの単位セル内パターンの光透過領域の寸法に応じた微細な凹凸を形成し、前記感光性材料パターンを硬化させる前に前記凹凸形状を滑らかな曲面にする加熱処理を施すことを特徴とする三次元構造体の製造方法。
IPC (7)：
G03F 1/08 ,  B81C 1/00 ,  G02B 3/00 ,  G02B 3/08 ,  G03F 7/004 511 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/40 501
FI (8)：
G03F 1/08 G ,  B81C 1/00 ,  G02B 3/00 A ,  G02B 3/00 Z ,  G02B 3/08 ,  G03F 7/004 511 ,  G03F 7/20 501 ,  G03F 7/40 501
F-Term (22)：
2H025AB14 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025BC13 ,  2H025BC42 ,  2H025BH05 ,  2H025FA29 ,  2H025FA35 ,  2H095BA12 ,  2H095BB36 ,  2H095BC09 ,  2H096AA28 ,  2H096BA05 ,  2H096HA01 ,  2H096HA07 ,  2H096HA30 ,  2H097FA02 ,  2H097JA02 ,  2H097JA03 ,  2H097LA12 ,  2H097LA15
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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