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J-GLOBAL ID：200903001955505699

研磨用組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法

Inventor： 石飛 健 ,  貴堂 高徳
Applicant, Patent owner： 昭和電工株式会社
Agent (1)： 福田 武通 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996034177
Publication number (International publication number)：1997204657
Application date： Jan. 30, 1996
Publication date： Aug. 05, 1997
Summary：

【要約】【課題】 コンピュータ等の記憶装置に使用される磁気ディスク基板、特にアルミディスク基板を高鏡面に研磨することができ、高密度な磁気ディスク基板を製造するのに適した研磨用組成物及び磁気ディスク基板の研磨方法を提供する。【解決手段】 磁気ディスク基板を鏡面研磨する研磨用組成物において、水、コロイド粒子、硝酸アルミニウムからなる研磨スラリーに、ホスホン酸、フェナントロリン、アセチルアセトンアルミニウム塩の一種若しくは二種以上の混合物であるゲル化防止剤を含有させてなる。

Claim (excerpt)：

磁気ディスク基板を鏡面研磨する研磨用組成物において、水、コロイド粒子、硝酸アルミニウム及びゲル化防止剤からなることを特徴とする研磨用組成物。

IPC (3)：

G11B 5/84 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14 550

FI (3)：

G11B 5/84 A ,  B24B 37/00 H ,  C09K 3/14 550 D

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

• 超研摩方法およびそのためのスラリ
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-324753   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• 特開昭62-236669
  
• 研磨液及び基体の研磨方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-217210   Applicant：旭硝子株式会社
• アルミニウム系金属の酸性洗浄水溶液及びその洗浄方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-256346   Applicant：日本ペイント株式会社