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J-GLOBAL ID:200903001995506973
反応性オルガノポリシロキサンで表面処理された無機粉体およびそれを含有する化粧料
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
萼 経夫 (外2名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994016999
Publication number (International publication number):1995206637
Application date: Jan. 17, 1994
Publication date: Aug. 08, 1995
Summary:
【要約】【構成】ケイ素原子に直接結合した以下の基:-R1 -X,-R2 -Si(R3)3-a -(OR4 )a および-(CH2 )l -O-(C2 H4 O)m -(C3 H6 O)n -R5 (式中、R1 =直接結合,二価炭化水素基、R2 =アルキレン基、R3 ,R4 =アルキル基、R5 =H,アシル基,一価炭化水素基、X=有機反応性基、a=2,3、l=0,正の整数、m,n=0〜150)を有する反応性オルガノポリシロキサンで表面処理された無機粉体、およびそれを含有する化粧料。【効果】本化粧料は耐久性、耐水性、皮膚との親和性、光沢付与性、撥水性、柔軟性、水蒸気透過性、ガス透過性、潤滑性に優れ、さらに油分への分散性、充填剤の保持性、造膜性、製品安定性、使用性(延び性)が極めて高い。
Claim 1:
1分子中に、ケイ素原子に直接結合した次式:-R1 -X(式中、R1 は直接結合または炭素原子数1ないし20の二価炭化水素基を表し、そしてXは有機反応性を有する官能基を表す)で表される有機反応性官能基と、次式:-R2 -Si(R3 )3-a -(OR4 )a(式中、R2 は炭素原子数2ないし5のアルキレン基を表し、R3 およびR4 は互いに独立して水素原子または炭素原子数1ないし5のアルキル基を表し、そしてaは2または3の整数を表す)で表される縮合性シリルアルキル基と、次式:-(CH2 )l -O-(C2 H4 O)m -(C3 H6 O)n -R5(式中、R5 は水素原子、アシル基または一価炭化水素基を表し、lは0または正の整数を表し、そしてmおよびnは0ないし150の整数を表すが、ただしm+nは1ないし150の整数である)で表されるポリオキシアルキレン基とをそれぞれ少なくとも1個有する反応性オルガノポリシロキサンで表面処理された、化粧料に配合するための無機粉体。
IPC (2):
A61K 7/02
, C09C 3/12 PCH
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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有機ケイ素化合物処理顔料、その製法および化粧料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-173861
Applicant:有限会社三好化成
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特開昭63-246312
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特開昭60-163973
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反応性オルガノポリシロキサン
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-229654
Applicant:日本ユニカー株式会社
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特開昭63-246312
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特開昭60-163973
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