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J-GLOBAL ID：200903002187496657

粒子線照射方法及び粒子線照射装置

Inventor： 井関 康 ,  祐延 悟
Applicant, Patent owner： 株式会社東芝
Agent (1)： 鈴江 武彦 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000026564
Publication number (International publication number)：2001212253
Application date： Feb. 03, 2000
Publication date： Aug. 07, 2001
Summary：

【要約】【課題】3次元的照射領域にわたって均一で精度良く照射を簡単に行うことを可能にすることにある。【解決手段】粒子線スポットビームのエネルギーを複数に切替えるレンジシフタ7と、前記粒子線の照射位置を切替えるスキャニング磁石3a,3bとを備えて、前記粒子線スポットビームのエネルギーと位置を制御して被照射部位に照射を行う粒子線照射装置において、スポットビーム径を複数に切替え可能な散乱体装置9を設ける。

Claim (excerpt)：

粒子線スポットビームのエネルギーと位置を制御して被照射部位に照射を行う粒子線照射方法において、スポットビーム径を複数に切替え可能なビーム径調整手段によりビーム径を制御して照射を行うことを特徴とする粒子線照射方法。

F-Term (13)：

4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AG02 ,  4C082AG12 ,  4C082AG27 ,  4C082AG42 ,  4C082AJ02 ,  4C082AL06 ,  4C082AN02 ,  4C082AP02 ,  4C082AP03 ,  4C082AP11 ,  4C082AR12

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

• 特公平6-096048
  
• 荷電粒子ビーム装置およびその運転方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-227759   Applicant：株式会社日立製作所
• 特許第2908564号