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J-GLOBAL ID:200903002335282270
苛性カリ中のニッケルの除去方法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
幸田 全弘
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998372787
Publication number (International publication number):2000203828
Application date: Dec. 28, 1998
Publication date: Jul. 25, 2000
Summary:
【要約】【課題】 苛性カリの濃縮などにおいて、ニッケルを材質とした濃縮装置から溶出するニッケルを簡単な手段で低レベルまで除去して高純度の苛性カリを得る方法を提供する。【解決手段】 ヤシ殻活性炭などの活性炭をプレコートした濾過装置によりニッケルを含む苛性カリ水溶液を濾過してニッケルの含有量の少ない高純度の苛性カリを得る。
Claim (excerpt):
活性炭をプレコートした濾過装置によりニッケルを含む苛性カリ水溶液を濾過することを特徴とする苛性カリ中のニッケルの除去方法。
IPC (5):
C01D 1/28
, B01D 15/00
, B01D 37/02
, B01J 20/20
, C02F 1/62
FI (5):
C01D 1/28 Z
, B01D 15/00 P
, B01D 37/02 G
, B01J 20/20 B
, C02F 1/62 Z
F-Term (12):
4D017AA01
, 4D017BA12
, 4D017CA03
, 4D038AA08
, 4D038AB67
, 4D038BA02
, 4D038BB06
, 4D066CA05
, 4G066AA05B
, 4G066CA46
, 4G066DA08
, 4G066EA11
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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特開昭52-052898
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特開平4-055312
-
特開昭48-000098
-
特公昭50-011359
-
アルカリ溶液の純化方法及び半導体ウェーハのエッチ ング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-039921
Applicant:信越半導体株式会社
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特開平1-160818
-
特開昭62-138323
-
特開昭62-108834
-
特開昭52-149297
-
特開昭50-101292
-
特開昭49-084996
-
特開昭63-008215
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