Pat
J-GLOBAL ID:200903098135514972

アルカリ溶液の純化方法及び半導体ウェーハのエッチ ング方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 石原 詔二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998039921
Publication number (International publication number):1998310883
Application date: Feb. 23, 1998
Publication date: Nov. 24, 1998
Summary:
【要約】【課題】 アルカリ溶液中の金属不純物イオンを低コストで極めて効率良く非イオン化することを可能としたアルカリ溶液の純化方法ならびにこの純化されたアルカリ溶液を用いて半導体ウェーハ品質を劣化させることなくエッチングを行うことを可能として半導体ウェーハのエッチング方法を提供する。【解決手段】 アルカリ溶液中に存在している金属イオンの可逆電位に比べ、卑な酸化電位をもつ還元剤を溶解することにより、アルカリ溶液中に存在する金属イオンを非イオン化する。
Claim (excerpt):
アルカリ溶液中に存在している金属イオンの可逆電位に比べ、卑な酸化電位をもつ還元剤を溶解することにより、アルカリ溶液中に存在する金属イオンを非イオン化することを特徴とするアルカリ溶液の純化方法。
IPC (4):
C23F 1/32 ,  C02F 1/70 ,  C23F 1/46 ,  H01L 21/306
FI (4):
C23F 1/32 ,  C02F 1/70 A ,  C23F 1/46 ,  H01L 21/306 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
Show all

Return to Previous Page