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J-GLOBAL ID:200903098135514972
アルカリ溶液の純化方法及び半導体ウェーハのエッチ ング方法
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石原 詔二
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998039921
Publication number (International publication number):1998310883
Application date: Feb. 23, 1998
Publication date: Nov. 24, 1998
Summary:
【要約】【課題】 アルカリ溶液中の金属不純物イオンを低コストで極めて効率良く非イオン化することを可能としたアルカリ溶液の純化方法ならびにこの純化されたアルカリ溶液を用いて半導体ウェーハ品質を劣化させることなくエッチングを行うことを可能として半導体ウェーハのエッチング方法を提供する。【解決手段】 アルカリ溶液中に存在している金属イオンの可逆電位に比べ、卑な酸化電位をもつ還元剤を溶解することにより、アルカリ溶液中に存在する金属イオンを非イオン化する。
Claim (excerpt):
アルカリ溶液中に存在している金属イオンの可逆電位に比べ、卑な酸化電位をもつ還元剤を溶解することにより、アルカリ溶液中に存在する金属イオンを非イオン化することを特徴とするアルカリ溶液の純化方法。
IPC (4):
C23F 1/32
, C02F 1/70
, C23F 1/46
, H01L 21/306
FI (4):
C23F 1/32
, C02F 1/70 A
, C23F 1/46
, H01L 21/306 B
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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特開平2-152592
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溶解重金属を除去する亜二チオン酸第一鉄法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-087239
Applicant:ロマーテクノロジーズ,インコーポレイテッド
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特開平3-024300
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特開昭55-074142
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薬液中重金属除去フィルタ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-190603
Applicant:株式会社日立製作所
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特開昭53-121467
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特公昭34-005104
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塩化第二鉄廃液の処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-346373
Applicant:鶴見曹達株式会社
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液中金属イオンの除去方法及び装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-031462
Applicant:株式会社カイジョー
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エッチング廃液処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-245462
Applicant:鶴見曹達株式会社
-
シリコンウエハのエッチング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-330867
Applicant:東芝セラミックス株式会社
-
アルカリ溶液の純化方法及び半導体ウェーハのエッチ ング方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-218503
Applicant:信越半導体株式会社
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