ポジ型レジスト組成物

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：久保山隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992346400
Publication number (International publication number)：1994167805
Application date： Dec. 25, 1992
Publication date： Jun. 14, 1994
Summary：

【要約】【目的】解像度、プロファイル及び焦点深度等の諸性能のバランスに優れたポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】一般式【化1】〔式中、R1 は水素もしくはハロゲン等を表わし、R3 はアルキル又はフェニルを表わす。x は1〜3である。Q1 〜Q12は水素、アルキルもしくはフェニルである。Z1 〜Z5 は【化2】(式中、R2 は水素もしくはハロゲン等を表わし、R3 は前記と同じ意味を有する。y は1〜3であり、pは0〜1である)を表わす。〕で示されるフェノール化合物の中の少なくとも1種のキノンジアジドスルホン酸エステルを含むキノンジアジド系感光剤及びアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

Claim (excerpt)：

一般式【化1】〔式中、R1 は水素もしくはハロゲン原子、-OCOR3 或いは置換されていてもよいアルキルもしくはアルコキシ基を表わし、R3 は置換されていてもよいアルキルもしくはフェニル基を表わす。x は1〜3の整数を表わす。Q1 〜Q12は各々独立して水素原子、アルキルもしくはフェニル基を表わす。Z1 〜Z5 は各々独立して【化2】(式中、R2 は水素もしくはハロゲン原子、-OCOR3 或いは置換されていてもよいアルキルもしくはアルコキシ基を表わし、R3 は前記と同じ意味を有する。y は1〜3の整数を、pは0又は1を、各々表わす。)を表わす。〕で示されるフェノール化合物の中の少なくとも1種のキノンジアジドスルホン酸エステルを含むキノンジアジド系感光剤及びアルカリ可溶性樹脂を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/022 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平3-228057
特開平2-285351
特開昭61-218616

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