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J-GLOBAL ID：200903002418819020

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor：
佐藤 健一郎

About 佐藤 健一郎


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (1)： 萩野 平 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997032431
Publication number (International publication number)：1998228111
Application date： Feb. 17, 1997
Publication date： Aug. 25, 1998
Summary：
【要約】【課題】 特に170nm〜220nmという波長領域の光に対して十分好適であり、かつ光に対して高感度で保存安定性にも優れたポジ型フォトレジスト組成物を提供することにある。【解決手段】 特定のエステル基を分子内に有する樹脂と活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有するポジ型フォトレジスト組成物。
Claim (excerpt)：
下記一般式〔I〕で表されるエステル基を分子内に有する樹脂と活性光線または放射線の照射により酸を発生する化合物とを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。【化1】(式中、R1 は水素原子、アルキル基またはシクロアルキル基を表す。R2 、R3 は、同じでも異なってもよく、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又は-A-R4 を表し、R2 とR3 が結合して環を形成してもよい。R4 は、水素原子、アルキル基又はシクロアルキル基を表し、R4 とR2 またはR3 とが結合して環を形成してもよい。Aは酸素原子または硫黄原子を表す。)
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/004 503 A ,  H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (3)

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