光再生装置

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：安富耕二 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997019159
Publication number (International publication number)：1998124921
Application date： Jan. 31, 1997
Publication date： May. 15, 1998
Summary：

【要約】【課題】基板厚0.6mmの光ディスク用に設計された対物レンズを用い、レーザビームの外周部を遮光して基板厚1.2mmの光ディスクを再生する場合、基板中でレーザビームに収差が発生し、再生特性が低下する。【解決手段】基板厚1.2mmの光ディスクの再生時にTN型液晶に電圧を印加する電極パターンをTN型液晶の両側で相違させ、レーザビームの内周部が通過部分のTN型液晶の屈折率を1.5、内周部と外周部との中間領域が通過するTN型液晶の屈折率を1.5/1.65、外周部が通過するTN型液晶の屈折率を1.65とし、レーザビームの外周部の位相を内周部に比べ進ませる。

Claim (excerpt)：

第1の基板厚を有する第1の光ディスクと、前記第1の基板厚と異なる第2の基板厚を有する第2の光ディスクとをレーザビームにより再生可能な光再生装置であって、前記第1の光ディスク、もしくは前記第2の光ディスクに対向して設けられ、前記第1の光ディスクの信号記録面、もしくは前記第2の光ディスクの信号記録面にレーザビームを照射する対物レンズと、レーザビームを生成するレーザビーム生成手段と、前記レーザビーム生成手段により生成されたレーザビームを入射して、前記第1の光ディスクを再生するときは、前記レーザビームの偏光面を第1の偏光方向に偏光させて透過し、前記第2の光ディスクを再生するときは、前記レーザビームの偏光面を第2の偏光方向に偏光させるとともに前記レーザビームの球面波の位相を中心から外周へ行くほど進行させて透過する光学手段と、前記光学手段を透過したレーザビームを入射して、前記第1の偏光方向に偏光するレーザビームは、そのまま透過し、前記第2の偏光方向に偏光するレーザビームは、その外周部を遮光して透過し、それぞれのレーザビームを前記対物レンズに導く偏光選択手段とを含む、光再生装置。

IPC (2)：

G11B 7/135 , G11B 7/00

FI (2)：

G11B 7/135 Z , G11B 7/00 R

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

光学ヘッド
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-270257 Applicant：三洋電機株式会社
可変焦点レンズ
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-262021 Applicant：セイコーエプソン株式会社
液晶光学素子
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-101497 Applicant：トヨタ自動車株式会社

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