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J-GLOBAL ID：200903002621947786
露光装置および露光方法
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
山口 孝雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996175924
Publication number (International publication number)：1998004060
Application date： Jun. 14, 1996
Publication date： Jan. 06, 1998
Summary：
【要約】【課題】 たとえば2光子吸収レジストを用いた非線形多重露光において所定の光強度を実現するとともに各回の露光時間を短縮することのできる露光装置。【解決手段】 照明光学系ILは、光源22からの空間的にコヒーレントな光に基づいて、マスク26のパターン領域の一部だけを照明する照明領域を形成する。そして、非線形多重露光の各回の露光において、照明領域とマスクパターンとを相対移動させながら、マスクパターンの全体像を基板28上に形成する。
Claim (excerpt)：
光源からの光を集光して所定のパターンが形成されたマスクを照明するための照明光学系と、前記マスクのパターン像を感光性の基板上に形成するための投影光学系とを備え、前記基板上には入射光の強度に対して非線形に感光が進行する感光特性を有するレジストが塗布され、前記基板上での光強度分布を変化させて非線形多重露光を行う露光装置において、前記照明光学系は、前記光源からの空間的にコヒーレントな光に基づいて、前記マスクのパターン領域の一部だけを照明する照明領域を形成し、前記非線形多重露光の各回の露光において、前記照明領域と前記マスクパターンとを相対移動させながら、前記マスクパターンの全体像を前記基板上に形成することを特徴とする露光装置。
IPC (2)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 514 A
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 515 B
, H01L 21/30 515 D
Cited by examiner (3)
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パターン形成方法及び露光装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平5-122484
Applicant：株式会社日立製作所
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露光方法及び露光装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平5-236031
Applicant：株式会社ニコン
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光応用基板処理装置
Gazette classification：公開公報
Application number：特願平3-243713
Applicant：株式会社東芝
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