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J-GLOBAL ID：200903002670350256

ラジカル含有液体及びその製造方法、制御方法、製造装置、ならびにその液体を用いた化合物の反応方法

Inventor： 中村 彰信 ,  佐多 直明 ,  平野 啓二
Applicant, Patent owner： 日本電気株式会社
Agent (4)： 宮崎 昭夫 ,  金田 暢之 ,  伊藤 克博 ,  石橋 政幸
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003280973
Publication number (International publication number)：2005046715
Application date： Jul. 28, 2003
Publication date： Feb. 24, 2005
Summary：

【課題】 機能性物質の合成や難分解性有機物質の分解処理などにおいて、酸化性ラジカルと還元性ラジカルの両方の反応性をそれぞれ有効に利用し、且つラジカルの生成量、種類、安定性、反応性などを制御することにより、目的の反応を効果的に促進させ、少ないエネルギーで迅速かつ効率的な反応を得る反応制御方法およびその装置を提供する。【解決手段】 反応溶媒中に少なくとも一対の電極を設け、前記電極に通電することによって酸化性ラジカルと還元性ラジカルを発生させることで、両ラジカルが反応空間で反応時間中に共存しているラジカル含有液体を得る。【選択図】 なし

Claim (excerpt)：

酸化性ラジカルと、還元性ラジカルが反応空間で反応時間中に共存していることを特徴とするラジカル含有液体。

IPC (3)：

C02F1/461 ,  B01J19/08 ,  H01M6/02

FI (3)：

C02F1/46 101Z ,  B01J19/08 A ,  H01M6/02 Z

F-Term (27)：

4D061DA08 ,  4D061DB19 ,  4D061DC03 ,  4D061EA03 ,  4D061EA04 ,  4D061EB02 ,  4D061EB09 ,  4D061EB20 ,  4D061EB21 ,  4D061EB30 ,  4D061EB31 ,  4D061EB40 ,  4D061ED12 ,  4D061ED13 ,  4G075AA13 ,  4G075BA05 ,  4G075BA06 ,  4G075CA20 ,  4G075CA54 ,  4G075EC21 ,  4G075FB02 ,  4G075FB03 ,  4G075FB04 ,  5H024AA01 ,  5H024AA02 ,  5H024AA11 ,  5H024BB11

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 難分解性有機物の処理方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-267020   Applicant：荏原実業株式会社, 株式会社エイブル, 張書廷
• 廃水処理方法および装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-077027   Applicant：株式会社イガデン
• 第2611080号