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J-GLOBAL ID:200903002766849758
領域の検出方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐々木 功 (外1名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1997138276
Publication number (International publication number):1998332332
Application date: May. 28, 1997
Publication date: Dec. 18, 1998
Summary:
【要約】【課題】複数の回路面が深さ方向に積層された半導体ウェーハ等において、赤外線を利用した撮像により、半導体ウェーハ等の内部から特定の領域を検出する。【解決手段】検出すべき領域の深さ方向の位置を予め記憶手段に記憶させておき、半導体ウェーハに赤外線を照射すると共に、記憶手段に記憶させた深さ方向の位置に焦点を合わせて撮像することによって所望の領域を検出する。
Claim (excerpt):
半導体ウェーハの内部に形成された検出すべき領域を赤外線によって撮像して検出する領域の検出方法であって、半導体ウェーハの種別によって前記検出すべき領域の深さ方向の位置を予め記憶手段に記憶させておき、該記憶手段に記憶させた位置に撮像手段の焦点を合わせて半導体ウェーハの所要位置を検出するようにした領域の検出方法。
IPC (2):
FI (2):
G01B 11/00 H
, H01L 21/78 C
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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マスク検査装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-168831
Applicant:株式会社東芝
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特開平2-170279
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