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J-GLOBAL ID：200903002772190652

リソグラフィ装置及びデバイス製造方法

Inventor：
ロバート - ハン マニング シュミット

About ロバート - ハン マニング シュミット

, 
ジョエリ ロフ

About ジョエリ ロフ


Applicant, Patent owner：
エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ

About エイエスエムエル ネザランドズ ベスローテン フエンノートシャップ


Agent (4)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  吉田 裕 ,  森 徹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005347522
Publication number (International publication number)：2006165548
Application date： Dec. 01, 2005
Publication date： Jun. 22, 2006
Summary：
【課題】リソグラフィ装置及びデバイス製造方法を提供すること。【解決手段】パターン中の人為結果の可視性を小さくするためのリソグラフィ装置が提供される。リソグラフィ装置は、照明システムと、パターン形成機器と、投影システムと、変調機器とを備えている。照明システムによって放射のビームが供給され、パターン形成機器によってビームがパターン形成される。投影システムによってビームが基板の目標部分に投射される。変調機器によってビームが変調され、変調スキームを備えたパターンが付与される。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
放射のビームを供給する照明システムと、 前記ビームをパターン形成するパターン形成機器と、 前記ビームを基板の目標部分に投射する投影システムと、 前記ビームを変調し、変調スキームを備えたパターンを付与する変調機器とを備えたリソグラフィ装置。
IPC (2)：
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (2)：
H01L21/30 529 ,  G03F7/20 505
F-Term (9)：
2H097AA03 ,  2H097AB05 ,  2H097BA10 ,  2H097BB10 ,  2H097CA17 ,  2H097LA11 ,  5F046BA07 ,  5F046CA04 ,  5F046CB01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (15)
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