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J-GLOBAL ID:200903053140942512
画像露光方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
渡辺 望稔
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000069975
Publication number (International publication number):2001255664
Application date: Mar. 14, 2000
Publication date: Sep. 21, 2001
Summary:
【要約】【課題】二次元空間変調素子を用いた感光材料の露光において、光の利用効率が高く、しかも、光量均一性に優れた画像露光方法を提供する。【解決手段】二次元空間変調素子の1つの画素列方向に、感光材料と二次元空間変調素子とを相対的に走査すると共に、この走査に同期して二次元空間変調素子による画像も前記走査方向に走査することにより、感光材料を多重露光し、かつ走査方向の画素列による最大露光量が、各画素列で等しくなるように、少なくとも1つの画素列は、記録画像によらず、一部の画素による露光を常時停止することにより、前記課題を解決する。
Claim (excerpt):
感光材料の分光感度に応じた光源から射出され、二次元空間変調素子によって変調された光によって感光材料を露光するに際し、前記二次元空間変調素子の1つの画素列方向に、前記感光材料と二次元空間変調素子とを相対的に走査すると共に、この走査に同期して前記二次元空間変調素子による画像も前記走査方向に走査することにより、前記感光材料を多重露光し、かつ、前記走査方向の画素列による最大露光量が各画素列で等しくなるように、少なくとも1つの前記画素列は、記録画像によらず、一部の画素による露光を常時停止することを特徴とする画像露光方法。
IPC (5):
G03F 7/20 511
, B41C 1/10
, B41J 2/445
, G02B 26/08
, G03F 7/24
FI (5):
G03F 7/20 511
, B41C 1/10
, G02B 26/08 E
, G03F 7/24 G
, B41J 3/21 V
F-Term (22):
2C162AE23
, 2C162AE28
, 2C162AF23
, 2C162FA09
, 2C162FA10
, 2C162FA49
, 2C162FA50
, 2C162FA62
, 2H041AA05
, 2H041AB14
, 2H041AC06
, 2H041AZ05
, 2H084AA30
, 2H084AE05
, 2H084AE06
, 2H084CC05
, 2H097AA11
, 2H097AA16
, 2H097BA10
, 2H097BB01
, 2H097CA12
, 2H097LA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (14)
-
露光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-063265
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
リソグラフィ装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-314739
Applicant:株式会社日立製作所
-
画像記録方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-321584
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
リソグラフィック投影装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-111201
Applicant:エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
-
露光方法及び走査型露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-040580
Applicant:ソニー株式会社
-
特開昭62-193125
-
可変スリット装置および線幅の可変方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-086490
Applicant:エスヴィージーリトグラフィーシステムズインコーポレイテッド
-
特開平1-298719
-
走査型投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-172159
Applicant:キヤノン株式会社
-
走査型露光装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-176781
Applicant:キヤノン株式会社
-
特開昭58-038822
-
電子ビーム露光装置及び電子ビーム露光用マスク
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-283814
Applicant:キヤノン株式会社
-
露光装置およびそれを用いた微細加工体の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-305367
Applicant:株式会社日立製作所
-
パターニング装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-211733
Applicant:テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
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