光減衰器デバイス、放射システム、及び、それらの付属するリソグラフィ装置、及び、デバイス製造方法

Inventor： , , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (3)：稲葉良幸 , 大賀眞司 , 大貫敏史
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008172173
Publication number (International publication number)：2008235941
Application date： Jul. 01, 2008
Publication date： Oct. 02, 2008
Summary：

【課題】ビームの中心線に対して対称であり、ビームの中心部分に存在する1つ又は複数の光減衰器要素を提供すること。【解決手段】光減衰器デバイスは少なくとも1つの光減衰器要素を使用して平均強度より高い強度を有する放射のビームの一部を取り除くように動作する。デバイスは、放射システム及び/又はリソグラフィ装置、特に走査型リソグラフィ装置における応用例を有し、光減衰器要素は、ビームの中心部分に、例えば走査方向に垂直に設けられている。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

リソグラフィ装置における使用のための放射のビームの均一性を改善するための光減衰器デバイスであって、前記放射のビームから前記放射の少なくとも一部を取り除く少なくとも1つの光減衰器要素を含む光減衰器デバイス。

IPC (1)：

H01L 21/027

FI (2)：

H01L21/30 516D , H01L21/30 515D

F-Term (2)：

5F046CB08 , 5F046DA02

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

リソグラフィック投影装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-111201 Applicant：エイエスエムリトグラフィーベスローテンフエンノートシャップ
リソグラフィ装置およびデバイスの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-301097 Applicant：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
走査型投影露光装置及びそれを用いたデバイスの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-172159 Applicant：キヤノン株式会社

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