リソグラフィ装置およびデバイスの製造方法

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：浅村皓 (外3名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002301097
Publication number (International publication number)：2003178969
Application date： Sep. 06, 2002
Publication date： Jun. 27, 2003
Summary：

【要約】【課題】リソグラフィ装置の投影ビームの経路に半影を生じさせる照明強度調節装置を設けて投影ビームの横断面に渡り照明強度を一様にする。【解決手段】照明強度調整装置10は、投影ビームPBの経路に配置される複数のブレード11から成り、これにより照明野IFを横切って伸長する半影を投じることが可能である。これらのブレードは選択的に回転され、投影ビームPBに垂直にその有効幅を増し、均一性を制御する。

Claim (excerpt)：

- 放射線の投影ビームを供給する放射線システムと、- 所望するパターンに従って投影ビームをパターン化するパターニング手段を支持する支持構造と、- 基板を保持する基板テーブルと、- パターン化されたビームを基板の目標部分に投影する投影システムと、- 該投影手段との関連において少なくとも走査方向に該基板を運動させる位置決め手段とにより構成されており、さらに、該放射線システムに配置されて、かつ、スキャニング方向において照明野のセンターラインについてほぼ対称をなす半影を、その使用時に、パターニング手段上の照明野に投じる複数の部材から成る強度調整装置を備えていることを特徴とするリソグラフィ投影装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 503 , G21K 1/04 , G21K 5/02

FI (6)：

G03F 7/20 503 , G21K 1/04 P , G21K 5/02 X , H01L 21/30 531 A , H01L 21/30 515 D , H01L 21/30 518

F-Term (8)：

2H097CA15 , 2H097LA10 , 5F046BA07 , 5F046CB25 , 5F046DA12 , 5F046GA03 , 5F046GA14 , 5F046GB09

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (8)

露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-023783 Applicant：キヤノン株式会社
投影光学装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-284371 Applicant：株式会社ニコン
特開平4-196513

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Cited by examiner (11)

投影光学装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-284371 Applicant：株式会社ニコン
露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-023783 Applicant：キヤノン株式会社
特開平4-196513

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