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J-GLOBAL ID：200903002823572695

高開口数リングフィールド光学縮小系

Inventor：
デイヴィッド エム ウイリアムソン

About デイヴィッド エム ウイリアムソン


Applicant, Patent owner：
エスヴィージー リトグラフィー システムズ インコーポレイテッド

About エスヴィージー リトグラフィー システムズ インコーポレイテッド


Agent (1)： 矢野 敏雄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996330929
Publication number (International publication number)：1997211332
Application date： Dec. 11, 1996
Publication date： Aug. 15, 1997
Summary：
【要約】【課題】 約200ナノメートル以下の波長域で使用可能であり、比較的大きい開口数を有した投影光学系を提供する。【解決手段】 本願発明による投影光学系は3つのミラー対を有し、第1ミラー対は入射ひとみを第2ミラー対に結像し開口絞りを構成する収束ミラーを有し、第2ミラー対は前記開口絞りを第2の実像ひとみにリレーし中間像を形成する収束ミラーを含み、第3ミラー対は前記第2実像ひとみを射出ひとみにリレーし前記中間像を最終的な実像に結像する収束ミラーを有する。第2ミラー対がフィールドミラー素子として動作することにより大きな開口数が得られる。
Claim (excerpt)：
第1のミラー対と、前記第1のミラー対から反射された電磁波を受光するよう配設されたフィールドミラー対と、前記フィールドミラー対から反射された電磁波を受光するよう配設された第3ミラー対とを具備し、中間像が像面上において最終像へと再結像されるよう構成された、長共役端から短共役端間のフォトリソグラフィー用光学縮小系。
IPC (3)：
G02B 17/08 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G02B 17/08 A ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 513
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (2)

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