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J-GLOBAL ID:200903002848320402

光学プローブ及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 日比谷 征彦
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003430392
Publication number (International publication number):2005189085
Application date: Dec. 25, 2003
Publication date: Jul. 14, 2005
Summary:
【課題】低分子、高分子から微粒子、細菌に渡る広範な測定対象物に対して、良好な測定感度を持つ光学プローブを得る。【解決手段】適度な量の光散乱要素を光学プローブ1内に設けることにより、励起光の内部伝播と外部遠方への放出のバランスを取り、エバネッセント波励起と通常光励起を混在させる。【選択図】図2
Claim (excerpt):
光透過性基材により励起光を伝播し、前記基材に接触する検体中の特定対象に対応する発光を測定する光学プローブであって、前記基材はその内部に前記伝播光が20%/cm以下の損失を生ずる光散乱要素を備えたことを特徴とする光学プローブ。
IPC (2):
G01N21/64 ,  G01N33/543
FI (2):
G01N21/64 G ,  G01N33/543 595
F-Term (16):
2G043BA16 ,  2G043BA17 ,  2G043CA03 ,  2G043CA04 ,  2G043DA02 ,  2G043DA06 ,  2G043EA01 ,  2G043GA03 ,  2G043GB16 ,  2G043HA01 ,  2G043HA05 ,  2G043JA02 ,  2G043KA02 ,  2G043KA05 ,  2G043KA09 ,  2G043LA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (4)
  • 特開昭63-273042号公報
  • 蛍光分析法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平3-287858   Applicant:イビデン株式会社
  • 米国特許4582809号公報
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