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J-GLOBAL ID：200903002875902871

高い照射均一性を有する高エミッタンス電子ソ-ス

Inventor： スチーブン・ディー・ゴラディー ,  ロドニィー・エイ・ケンドール ,  カール・イー・ボーネンカンプ
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 坂口 博 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999098318
Publication number (International publication number)：1999329317
Application date： Apr. 06, 1999
Publication date： Nov. 30, 1999
Summary：

【要約】【課題】 電子ビーム投射システムおよびリソグラフィ・ツールに特に適用可能な大きい面積および大きいビーム広がり角における均一強度の電子ビームの生成を提供すること。【解決手段】 平面状の主放出表面10'を有する陰極10と、そこにアパーチャを有する平面状の放出表面に対してほぼ平行の陽極16と、平面状の主放出表面の反対側にある陰極の表面の電子および光子衝撃により比較的大きい面積において均一に陰極を加熱するための配置50を含む電子ソースを提供する。大面積フィラメントによる直接加熱と、副陰極からの放出による衝撃による間接加熱の両方が、おそらく複数ステージで提供される。

Claim (excerpt)：

平面状の主放出表面を有する陰極と、アパーチャを有する、前記平面状の放出表面に対してほぼ平行の陽極と、前記平面状の主放出表面の反対側にある前記陰極の表面の電子および光子衝撃により前記陰極を加熱する手段とを含む、電子ソース。

IPC (2)：

H01J 37/075 ,  H01J 37/06

FI (2)：

H01J 37/075 ,  H01J 37/06 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

• 電子銃
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-031416   Applicant：株式会社ニコン
• 特開昭54-004840
  
• 電子銃装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-141646   Applicant：三菱重工業株式会社
• 特開平1-109632
  
• 電子ビーム加工機用電子銃
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-146146   Applicant：日本電気株式会社
• 特開平4-051438