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J-GLOBAL ID:200903002903163940
炭化珪素単結晶の製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (5):
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 永坂 友康
, 西山 雅也
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006019388
Publication number (International publication number):2007197274
Application date: Jan. 27, 2006
Publication date: Aug. 09, 2007
Summary:
【課題】溶液法による、成長速度の速い、所望の結晶構造を持つ炭化珪素単結晶を製造する方法を提供する。【解決手段】SiとCを含む原料を融解した融液に炭化珪素種結晶基板を接触させ、前記基板上に炭化珪素単結晶を成長させることを含む六方晶炭化珪素単結晶の製造方法において、種結晶基板として六方晶炭化珪素単結晶基板を用いる場合、その(000-1)炭素面を使用し、種結晶温度を1700〜1900°Cとし、かつ融液内部から種結晶基板と接触する表面に向かう温度勾配を1〜5°C/mmの範囲内として結晶を成長させる。一方、種結晶基板として菱面体晶炭化珪素単結晶基板を用いる場合、その(0001)珪素面を使用し、かつ種結晶温度を1700〜1900°Cとして結晶を成長させる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
SiとCを含む原料を融解した融液に炭化珪素種結晶基板を接触させ、前記基板上に炭化珪素単結晶を成長させることを含む六方晶炭化珪素単結晶の製造方法であって、
種結晶基板として六方晶炭化珪素単結晶基板を用いる場合、その(000-1)炭素面を使用し、種結晶温度を1700〜1900°Cとし、かつ融液内部から種結晶基板と接触する表面に向かう温度勾配を1〜5°C/mmの範囲内として結晶を成長させること、又は
種結晶基板として菱面体晶炭化珪素単結晶基板を用いる場合、その(0001)珪素面を使用し、かつ種結晶温度を1700〜1900°Cとして結晶を成長させること、
を特徴とする六方晶炭化珪素単結晶の製造方法。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (13):
4G077AA02
, 4G077BE08
, 4G077CG01
, 4G077CG07
, 4G077EA02
, 4G077ED05
, 4G077ED06
, 4G077EH07
, 4G077QA01
, 4G077QA12
, 4G077QA38
, 4G077QA71
, 4G077QA79
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (2)
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炭化珪素単結晶の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-072033
Applicant:株式会社日立製作所
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炭化珪素(SiC)単結晶の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-164061
Applicant:住友金属工業株式会社
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