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J-GLOBAL ID:200903002904173639

還元水及びその製造方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2003183519
Publication number (International publication number):2004351399
Application date: May. 26, 2003
Publication date: Dec. 16, 2004
Summary:
【課題】小型の製造装置で、経済的に製造し酸化還元電位が低く、還元性が非常に強い水を得ること。【解決手段】50°C〜100°Cに熱した水に-180°C〜90°Cの水素ガスを0.1気圧〜1000気圧に加圧して溶解せしめ、その後常温常圧に戻すことにより本発明の還元水を得る。本発明の還元水は非常に低い酸化還元電位を有しているので、何らの健康問題を引き起こすことなく、還元水として日常的に摂取することができる。
Claim (excerpt):
常圧下で酸化還元電位が-10mv以下-2000mv以上である還元水。
IPC (3):
C02F1/68 ,  B01F1/00 ,  C02F1/70
FI (9):
C02F1/68 520B ,  C02F1/68 510A ,  C02F1/68 510B ,  C02F1/68 510C ,  C02F1/68 530A ,  C02F1/68 530K ,  C02F1/68 530L ,  B01F1/00 A ,  C02F1/70 Z
F-Term (13):
4D050AA01 ,  4D050AA02 ,  4D050AA04 ,  4D050AA06 ,  4D050AB31 ,  4D050BA14 ,  4D050BC01 ,  4D050BC02 ,  4D050BD03 ,  4D050BD08 ,  4G035AA01 ,  4G035AE02 ,  4G035AE15
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (5)
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