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J-GLOBAL ID：200903002930801540

アルケンリガンド前駆体および合成方法

Inventor： ウェイ-ウェイ ザン ,  ツェ ニュエン ,  ロバート バロウェリッツ ,  デビット ラッセル エバンス ,  シェン テン スー
Applicant, Patent owner： シャープ株式会社
Agent (1)： 山本 秀策
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999288869
Publication number (International publication number)：2000186053
Application date： Oct. 08, 1999
Publication date： Jul. 04, 2000
Summary：

【要約】【課題】 低い抵抗率および良好な接着特性を有し、銅を効果的に堆積できる銅前駆体を提供する。【解決手段】 選択された表面に金属を化学蒸着(CVD)により堆積させるための揮発性金属(M)前駆体化合物であって、前駆体化合物が、M+1(ヘキサフルオロアセチルアセトネート)と、第1の炭素原子への第1および第2結合、ならびに第2の炭素原子への第3および第4結合を有するアルケンリガンドであって、第1、第2、第3および第4結合が、H、C1からC8アルキル、C1からC8ハロアルキル、C1からC8アルコキシルを含む群から選択され、これによって高い金属堆積速度を可能にする安定した前駆体が形成されるアルケンリガンドとを含む前駆体化合物。

Claim (excerpt)：

選択された表面に金属を化学蒸着(CVD)により堆積させるための揮発性金属(M)前駆体化合物であって、該前駆体化合物が、M+1(ヘキサフルオロアセチルアセトネート)と、第1の炭素原子への第1および第2結合、ならびに第2の炭素原子への第3および第4結合を有するアルケンリガンドであって、該第1、第2、第3および第4結合が、H、C1からC8アルキル、C1からC8ハロアルキル、C1からC8アルコキシルを含む群から選択され、これによって高い金属堆積速度を可能にする安定した前駆体が形成されるアルケンリガンドと、を含む前駆体化合物。

IPC (4)：

C07C 11/02 ,  C07C 49/92 ,  C23C 16/18 ,  C07F 1/08

FI (4)：

C07C 11/02 ,  C07C 49/92 ,  C23C 16/18 ,  C07F 1/08 B

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開昭59-206317
  
• 特開昭58-018392
  
• 化学蒸着からの銅膜堆積のための銅化合物の溶液およびその合成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平11-266649   Applicant：ロームアンドハースカンパニー
• 特開昭59-206317
  
• 特開昭58-018392
  

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• MOCVD of Copper from New and Liquid Precursors (hfac)CuL, Where L= 1-pentene, ATMS, and VTMOS
• Alkene and Carbon Monoxide Derivatives of Copper(I) and Silver(I) β-Diketonates