偏光計測装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：吉田茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2000305680
Publication number (International publication number)：2002116085
Application date： Oct. 05, 2000
Publication date： Apr. 19, 2002
Summary：

【要約】【課題】作製が容易な偏光計測装置を提供する。【解決手段】偏光計測装置1は、集光光学系と、4つの位相板61(61a〜61d)と、1つの偏光板7と、4つの受光素子81(81a〜81d)と、演算処理部とを備えている。4つの位相板61の各進相軸は、偏光板7の偏光方向AR1に対して異なる4つの角度α0,α1,α2,α3を有している。各位相板61は、集光光学系からの光Lの位相状態を変化させ、偏光板7は、4つの位相板61のそれぞれを通過した光を所定の偏光方向に偏光する。また、4つの受光素子81は、偏光板7を通過した4つの位相板61からの光をそれぞれ受光し、演算処理部は、4つの受光素子81のそれぞれにおいて受光された光の強度に基づいて、入射光Lのストークスパラメータを算出する。偏光板7は、全ての位相板61に対して同一の偏光方向AR1を有しており、位相板61と偏光板7との位置合わせが容易である。

Claim (excerpt)：

光の偏光特性を計測する偏光計測装置であって、対象物からの光を集光する集光光学系と、前記集光光学系からの光の位相状態を変化させる位相板であって、その進相軸の角度が互いに異なる4つの位相板と、前記4つの位相板のそれぞれを通過した光を所定の偏光方向に偏光する偏光子と、前記偏光子を通過した前記4つの位相板のそれぞれからの光を受光する複数の受光素子と、前記複数の受光素子のそれぞれにおいて受光された光の強度に基づいて、前記対象物からの光に関するストークスパラメータを算出する演算処理手段と、を備えることを特徴とする偏光計測装置。

IPC (3)：

G01J 4/04 , G01N 21/21 , G02B 5/30

FI (3)：

G01J 4/04 D , G01N 21/21 Z , G02B 5/30

F-Term (18)：

2G059AA02 , 2G059BB08 , 2G059EE02 , 2G059EE05 , 2G059JJ11 , 2G059JJ19 , 2G059JJ20 , 2G059KK04 , 2G059MM01 , 2G059MM09 , 2G059MM12 , 2H049BA02 , 2H049BA06 , 2H049BA45 , 2H049BB02 , 2H049BB03 , 2H049BB05 , 2H049BC23

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

マイクロ偏光計及び楕円偏光計
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-262218 Applicant：ナノフォトニクス・アーゲー
特公平7-099402

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