平坦化パターンの生成方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：滝本智之 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1995239450
Publication number (International publication number)：1997081622
Application date： Sep. 19, 1995
Publication date： Mar. 28, 1997
Summary：

【要約】【目的】配線層に対する平坦化パターンの発生方法において、配線パターンのレイアウト設計のデザインルールを満たさない大きさの微小な平坦化パターンを発生させない。【構成】下層配線層に対する平坦化パターンを発生する方法において、CAD装置により配線周囲のパターンを図形的に反転し、この反転図形パターンを図形の内側に縮小し、この縮小図形パターンと単純図形を繰り返し配置した図形パターンとを論理積演算し、この論理積演算した図形パターンを図形の内側に縮小して、デザインルールを満たさない微細なパターンを削除し、この図形パターンを図形の外側に拡大して、平坦化パターンを得る。

Claim (excerpt)：

配線層の平坦化を行うための平坦化パターンの生成方法であって、配線パターンのレイアウト設計のデザインルールを満たさない平坦化パターンを除去する処理を含むことを特徴とする平坦化パターンの生成方法。

IPC (2)：

G06F 17/50 , H01L 21/82

FI (3)：

G06F 15/60 658 M , G06F 15/60 658 H , H01L 21/82 C

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

特開平4-287284
配線層に対する平坦化パターンの発生方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-063898 Applicant：富士通株式会社
特開平3-204776

Show all

Return to Previous Page