ガスの分光分析装置および分光分析方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：志賀正武 (外9名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998060130
Publication number (International publication number)：1999258156
Application date： Mar. 11, 1998
Publication date： Sep. 24, 1999
Summary：

【要約】【課題】周波数変調された半導体レーザ光を減圧状態の被測定ガスに透過させて光吸収強度の2次微分スペクトルを得ることによって、被測定ガス中の微量不純物を分析する方法における、測定条件の最適化を容易にできるようにする。【解決手段】ガスの分光分析装置に、半導体レーザ11の特性に応じてレーザ光の変調振幅を制御するための変調振幅演算手段1と、測定により得られた2次微分スペクトルにおけるピークの左右の極小値の波長間隔およびピークの吸収強度を演算するスペクトル演算手段2と、該スペクトル演算手段2で得られた吸収強度の値が最大となるように測定用ガスセル14内の圧力を制御するための圧力調整手段3を設ける。2次微分スペクトルにおけるピークの左右の極小値の波長幅が0.0116nmとなるようにレーザ光の変調振幅の最適値を設定する。変調振幅を最適値に設定して測定圧力を最適化する。

Claim (excerpt)：

波長可変型半導体レーザと、該半導体レーザに周波数変調を施す周波数変調手段と、前記半導体レーザから発振されるレーザ光を被測定ガスに透過させる手段と、前記被測定ガスを透過したレーザ光強度を測定する手段と、該レーザ光強度の測定値より2次微分スペクトルを得る手段とを備えたガスの分光分析装置であって、半導体レーザの特性から変調振幅の最適値を演算して、前記半導体レーザから発振されるレーザ光の変調振幅が該最適値となるように前記周波数変調手段を制御する変調振幅演算手段を備えてなることを特徴とするガスの分光分析装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (4)

分光器を用いた調和検出によって真空内の分子種を高感度に検出する方法及びそのシステム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-267343 Applicant：レール・リキード・ソシエテ・アノニム・プール・レテュード・エ・レクスプロワタシオン・デ・プロセデ・ジョルジュ・クロード
同位体分析装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-330405 Applicant：日本無線株式会社
ガス濃度測定方法およびその測定装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-052649 Applicant：東京電力株式会社, 日立電線株式会社

Show all

Return to Previous Page