Pat
J-GLOBAL ID：200903003242440387

露光用パターン表示・検査・修正方法

Inventor：
真鍋 康夫

About 真鍋 康夫

, 
星野 裕美

About 星野 裕美


Applicant, Patent owner：
富士通株式会社

About 富士通株式会社


Agent (1)： 松本 眞吉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998258976
Publication number (International publication number)：2000089448
Application date： Sep. 11, 1998
Publication date： Mar. 31, 2000
Summary：
【要約】【課題】補正前又は補正後の露光用データを効果的に検査修正してLSI開発期間を短縮する。【解決手段】ステップS12で選択されたメニュー項目(押されたコマンドボタン)に応じて、ウェーハ露光用パターンに関してはステップS13及びS14へ進み、ステップS15での表示、ステップS16での検査またはステップS17での修正が行われ、ステンシルマスク上のブロックパターンに関してはステップS13及びS24へ進み、ステップS25での表示、ステップS26での検査またステップS27での修正が行われる。ステップS16で露光シミュレーションを行い、ステップS15でその結果を表示させ、ステップS17でこの結果に基づいてウェーハ露光用パターンデータを修正する。ステンシルマスク上のブロックパターンを修正した場合には、ウェーハ露光用パターンデータ中に展開されたブロックパターンも一括修正される。
Claim (excerpt)：
ポリゴンパターンが基本パターンに分解された対象物露光用パターンデータについて、パターンを検査し、検査結果を表示し、表示された検査結果に基づいてパターンデータを修正する露光用パターン表示・検査・修正方法であって、実質的に該パターンを露光対象物上への縮小投影パターンと対応させ、対応した投影パターンにつき、該検査として、パターンの辺が他のパターンの辺と接触していない第1非接触部分の端点である非接触端点の間に第1計算候補点を生成し、この第1非接触部分と対向する辺の第2非接触部分に、該第1計算候補点に対応した第2計算候補点を生成し、該第1計算候補点と該第2計算候補点とを通る直線上かつ該第1及び第2非接触部分を横切る部分の各々に複数の計算点を生成し、該計算点での露光強度を計算し、計算結果に基づいて、該直線上の描画パターン幅予測値を求め、該予測値の目標値に対する誤差を該検査結果として算出する、ことを特徴とする露光用パターン表示・検査・修正方法。
IPC (4)：
G03F 1/08 ,  G06F 17/50 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/82
FI (8)：
G03F 1/08 A ,  G06F 15/60 636 B ,  G06F 15/60 658 M ,  G06F 15/60 666 Z ,  H01L 21/30 502 G ,  H01L 21/30 502 V ,  H01L 21/30 502 W ,  H01L 21/82 Z
F-Term (15)：
2H095BB01 ,  5B046AA08 ,  5B046BA04 ,  5B046GA01 ,  5B046HA05 ,  5B046JA04 ,  5B046KA05 ,  5F046AA25 ,  5F046DA02 ,  5F046DA11 ,  5F046DD01 ,  5F064DD03 ,  5F064HH06 ,  5F064HH10 ,  5F064HH14
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (5)
Show all

Return to Previous Page

TOP

BOTTOM