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J-GLOBAL ID：200903003277923674

イオン源

Inventor：
田中 政信

About 田中 政信

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雨宮 健介

About 雨宮 健介

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平本 和夫

About 平本 和夫

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原 重充

About 原 重充


Applicant, Patent owner：
株式会社日立製作所

About 株式会社日立製作所


Agent (1)： 作田 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002195350
Publication number (International publication number)：2004039459
Application date： Jul. 04, 2002
Publication date： Feb. 05, 2004
Summary：
【課題】イオンビームのビーム電流の可変範囲を拡大する。【解決手段】イオン源65は、マイクロ波パワー制御装置13,マイクロ波発信器15,放電容器19及び電極21a,21b,21cを有する。マイクロ波パワー制御装置13がケーブル14によりマイクロ波発信器15に接続される。放電容器19内にマイクロ波を入射することによってプラズマが発生され、プラズマ中のイオンはイオンビーム23となってイオン源65より出射される。マイクロ波パワー制御装置13はマイクロ波発信器15を制御し、マイクロ波16のパワーをパルスの途中で最低放電点弧可能パワーPC よりも低減させる。これによって、最低放電点弧可能パワーPC に対応する電流値よりも低いイオンビーム電流のパルスイオンビームが得られる。【選択図】 図1
Claim (excerpt)：
パルス状のマイクロ波及び高周波のいずれかのパルス波を出力するパルス波出力装置と、前記パルス波出力装置から出力された前記マイクロ波及び前記高周波のいずれかによる放電によってプラズマを生成する放電室と、前記放電室内で生成された前記プラズマからイオンをビームとして引き出す電極と、前記パルス波出力装置で前記マイクロ波及び前記高周波のいずれかのパルスを発生させ、そのパルス内で前記マイクロ波及び前記高周波のいずれかのパワーを段階的に少なくとも一回低下させるパワー制御装置とを備えたことを特徴とするイオン源。
IPC (9)：
H01J27/16 ,  A61N5/10 ,  G21G1/10 ,  G21K5/00 ,  G21K5/04 ,  H01J37/04 ,  H01J37/08 ,  H05H1/46 ,  H05H9/00
FI (11)：
H01J27/16 ,  A61N5/10 D ,  G21G1/10 ,  G21K5/00 A ,  G21K5/04 A ,  H01J37/04 Z ,  H01J37/08 ,  H05H1/46 B ,  H05H1/46 C ,  H05H1/46 L ,  H05H9/00 C
F-Term (16)：
2G085AA03 ,  2G085AA20 ,  2G085BA02 ,  2G085CA21 ,  2G085EA07 ,  4C082AA01 ,  4C082AC04 ,  4C082AE01 ,  4C082AG02 ,  4C082AG12 ,  4C082AG43 ,  5C030AA03 ,  5C030AB06 ,  5C030DD01 ,  5C030DD02 ,  5C030DE09
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (7)
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Cited by examiner (5)
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