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J-GLOBAL ID：200903003346980367

ハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法

Inventor：
大久保 靖

About 大久保 靖


Applicant, Patent owner：
ホーヤ株式会社

About ホーヤ株式会社


Agent (1)： 藤村 康夫
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996257501
Publication number (International publication number)：1998083062
Application date： Sep. 06, 1996
Publication date： Mar. 31, 1998
Summary：
【要約】【課題】 位相シフト効果を必要としない領域における漏れ光等の問題を高度に解決する。【解決手段】 ハーフトーン型の位相シフトマスクにおける位相シフト効果を必要としない領域に遮光膜を設ける。例えば、透光部2の周縁にリム状に形成された半透光部3における四隅のコーナー部分に、遮光層4を設ける。
Claim (excerpt)：
微細パターン転写用のマスクであって、透明基板上に形成するマスクパターンを、実質的に露光に寄与する強度の光を透過させる透光部と、実質的に露光に寄与しない強度の光を透過させる半透光部とで構成し、かつ、この半透光部を透過した光の位相をシフトさせて、該半透光部を透過した光の位相と前記透光部を透過した光の位相とを異ならしめることにより、前記半透光部と透光部との境界部近傍を通過した光の相殺作用を利用して境界部のコントラストを向上させるハーフトーン型位相シフトマスクであって、前記透光部と半透光部との境界近傍における光の相殺作用に実質的に寄与する部分を除く半透光部の上又は下に遮光層を設けたハーフトーン型位相シフトマスクにおいて、透光部の周縁にリム状に形成された半透光部における四隅のコーナー部分に、遮光層を設けたことを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスク。
IPC (2)：
G03F 1/08 ,  H01L 21/027
FI (4)：
G03F 1/08 A ,  G03F 1/08 G ,  H01L 21/30 502 P ,  H01L 21/30 528
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (4)
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Cited by examiner (4)
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