化粧品基材

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993355302
Publication number (International publication number)：1995173028
Application date： Dec. 17, 1993
Publication date： Jul. 11, 1995
Summary：

【要約】【構成】 MS値0.1〜1.8、窒素含有率0.2〜3重量%のカチオン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンからなる化粧品基材。【効果】本発明のカチオン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンを用いた化粧品は、良好な使用感、仕上り感を与える。

Claim (excerpt)：

MS値0.1〜1.8のガラクトマンナンのヒドロキシアルキルエーテルにおいて、その中のヒドロキシル基の一部が下記化1の一般式(I)で示される残基で置換された構造を有し、かつ窒素含有率が0.2〜3重量%のカチオン化ヒドロキシアルキルガラクトマンナンからなる化粧品基材。【化1】

IPC (4)：

A61K 7/00 , A61K 7/02 , A61K 7/06 , A61K 7/48

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

化粧品組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-214147 Applicant：ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ
ヘアケア組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-209078 Applicant：ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ
特開平2-264710

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