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J-GLOBAL ID：200903003394689453

多孔質高分子膜の製造方法

Inventor： 佐々木 重邦 ,  山田 典義 ,  山本 二三男
Applicant, Patent owner： 日本電信電話株式会社
Agent (1)： 雨宮 正季
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997211446
Publication number (International publication number)：1999021369
Application date： Jul. 04, 1997
Publication date： Jan. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】 微細空孔を有する多孔質高分子膜を簡便に製造する方法を提供する。【解決手段】 粒径50nm以下の微粒子が分散している高分子材料から微粒子を除去することを特徴とする。【効果】 微細空孔を有する多孔質高分子膜を簡便に得ることができる。この微細空孔を有する多孔質高分子膜を用いて例えばセンサへの応用等の発展が期待できる。

Claim (excerpt)：

粒径50nm以下の微粒子が分散している高分子材料から微粒子を除去することを特徴とする多孔質高分子膜の製造方法。

IPC (3)：

C08J 9/26 101 ,  C08J 9/26 CFG ,  C08G 73/10

FI (3)：

C08J 9/26 101 ,  C08J 9/26 CFG ,  C08G 73/10

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

• 特開平2-261837
  
• 特開昭56-011931
  
• 多孔性高分子ゲル材料の製造方法、及び多孔性高分子ゲル材料製造用の配合組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-223790   Applicant：オリンパス光学工業株式会社
• 特開平2-261837
  
• 特開昭56-011931