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J-GLOBAL ID：200903003519991599

パターン検査方法

Inventor：
服部 新一

About 服部 新一


Applicant, Patent owner：
日本アビオニクス株式会社

About 日本アビオニクス株式会社


Agent (1)： 山川 政樹
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997331612
Publication number (International publication number)：1999160249
Application date： Dec. 02, 1997
Publication date： Jun. 18, 1999
Summary：
【要約】【課題】 加工時の穴位置の変動に影響されることなくパターン検査を行う。【解決手段】 設計時のパターンデータからパターンエッジを示すエッジデータを抽出して、第1のマスタパターンとする(ステップ102)。NCデータから穴エッジを示すエッジデータを抽出して、第2のマスタパターンとする(ステップ104)。被測定パターンにおいて穴位置のずれ量を算出する(ステップ109)。穴位置のずれ量が許容範囲内であれば、ずれ量の分だけ第2のマスタパターンの位置をずらす(ステップ111)。第1のマスタパターン及び位置補正した第2のマスタパターンと被測定パターンを比較する(ステップ112、113)。
Claim (excerpt)：
被測定パターンの設計時のパターンデータからパターンエッジを示すエッジデータを抽出して、これを検査の基準となる第1のマスタパターンとし、被測定パターンの設計時のNCデータから穴エッジを示すエッジデータを抽出して、これを第2のマスタパターンとし、被測定パターンの濃淡画像からパターンエッジ及び穴エッジを示すエッジデータを抽出し、抽出した被測定パターンにおいて所定の位置決めマークと所定の穴との位置関係を求めて、これを基準量と比較することにより、穴位置のずれ量を算出し、この穴位置のずれ量が許容範囲内であれば、該ずれ量の分だけ第2のマスタパターンの位置をずらし、第1のマスタパターン及び位置補正した第2のマスタパターンと被測定パターンのエッジデータとを比較して被測定パターンを検査することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (2)：
G01N 21/88 ,  G06T 7/00
FI (2)：
G01N 21/88 F ,  G06F 15/62 405 C
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
  • パターン検査方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-323480   Applicant：富士通株式会社
  • パターン検査方法及びその装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-339365   Applicant：株式会社東芝
  • 特開平4-332853
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Cited by examiner (2)

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