Pat
J-GLOBAL ID:200903003643537456
炉体内部に排気ダクトを有する乾燥炉
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
渡邉 一平
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000016116
Publication number (International publication number):2001208475
Application date: Jan. 25, 2000
Publication date: Aug. 03, 2001
Summary:
【要約】【課題】 有機溶剤を含有する材料が塗布された基板を乾燥するにあたり、前記材料から揮発した有機溶剤を含むガスの結露と、それに起因する炉体、ダクト等の腐食や基板の汚染が生じないような乾燥炉を提供する。【解決手段】 有機溶剤を含有する材料が塗布された基板1を乾燥するために使用される乾燥炉であって、前記材料から揮発した有機溶剤を含むガスを炉外に排出するための排気ダクト27が、炉体内部を通るように配設されている。
Claim (excerpt):
有機溶剤を含有する材料が塗布された基板を乾燥するために使用される乾燥炉であって、前記材料から揮発した有機溶剤を含むガスを炉外に排出するための排気ダクトが、炉体内部を通るように配設されていることを特徴とする乾燥炉。
IPC (4):
F26B 15/12
, F27B 9/02
, F27B 9/30
, F27D 17/00 105
FI (4):
F26B 15/12 B
, F27B 9/02
, F27B 9/30
, F27D 17/00 105 G
F-Term (19):
3L113AA02
, 3L113AB02
, 3L113AB06
, 3L113AC08
, 3L113AC46
, 3L113AC64
, 3L113AC71
, 3L113BA34
, 4K050AA05
, 4K050BA07
, 4K050BA12
, 4K050CA13
, 4K050CC10
, 4K056AA14
, 4K056BA02
, 4K056CA10
, 4K056CA15
, 4K056DC05
, 4K056DC08
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (3)
-
大型基板の乾燥方法および乾燥装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-235585
Applicant:株式会社ノリタケカンパニーリミテド
-
ガス遠赤外線ヒーターを用いた加熱乾燥装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-136384
Applicant:テーピ工業株式会社, 株式会社ヤガイ, 山形酸素株式会社, 男山酒造株式会社
-
ウエブ乾燥処理装置、及びウエブ乾燥処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-293755
Applicant:株式会社ヒラノテクシード
Cited by examiner (3)
-
大型基板の乾燥方法および乾燥装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-235585
Applicant:株式会社ノリタケカンパニーリミテド
-
ガス遠赤外線ヒーターを用いた加熱乾燥装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-136384
Applicant:テーピ工業株式会社, 株式会社ヤガイ, 山形酸素株式会社, 男山酒造株式会社
-
ウエブ乾燥処理装置、及びウエブ乾燥処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-293755
Applicant:株式会社ヒラノテクシード
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