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J-GLOBAL ID：200903003646701850

パターン描画装置

Inventor： 加藤 博己 ,  井上 正雄
Applicant, Patent owner： 大日本スクリーン製造株式会社
Agent (3)： 吉田 茂明 ,  吉竹 英俊 ,  有田 貴弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2006314293
Publication number (International publication number)：2008130817
Application date： Nov. 21, 2006
Publication date： Jun. 05, 2008
Summary：

【課題】複数の光学ヘッドに搭載されるアパーチャの交換作業を自動化し、アパーチャを効率よく交換するとともに、アパーチャの汚染も防止することができるパターン描画装置を提供する。【解決手段】このパターン描画装置1は、主としてアパーチャ交換部40とアパーチャユニット36とを制御部50からの指令に基づいて動作させることにより、各光学ヘッド32a,32b,...,32gに搭載されたアパーチャAPの交換処理を行う。具体的には、複数の光学ヘッド32a〜32gに沿ってハンド部41を移動させ、-Y側へ進出させたアパーチャユニットに対してハンド部41を接近および離間させることにより、アパーチャAPの受け渡しを行う。このため、アパーチャAPを自動的かつ効率よく交換することができ、アパーチャAPの汚染も防止することができる。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

所定方向に沿って配列された複数の光学ヘッドから基板に向けて光を照射することにより、基板の表面にパターンを描画するパターン描画装置において、 前記複数の光学ヘッドのそれぞれにおいて、所定のパターン形状に光を透過させるためのアパーチャ部材を保持するアパーチャ保持手段と、 前記アパーチャ保持手段に保持されるアパーチャ部材を交換するアパーチャ交換手段と、 を備え、 前記アパーチャ交換手段は、 前記アパーチャ部材を保持しつつ搬送するハンド部と、 前記ハンド部を、少なくとも前記複数の光学ヘッドが配列された範囲内に亘って前記所定方向と平行な方向に移動させる移動手段と、 前記移動手段により前記ハンド部を前記複数のアパーチャ保持手段のそれぞれに対向する位置に移動させた後、前記ハンド部を前記アパーチャ保持手段に対して接近および離間させることにより、前記アパーチャ保持手段と前記ハンド部との間でアパーチャ部材の受け渡しを行う制御手段と、 を有することを特徴とするパターン描画装置。

IPC (2)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (2)：

H01L21/30 515D ,  G03F7/20 501

F-Term (11)：

2H097BB03 ,  2H097BB10 ,  2H097EA01 ,  2H097LA09 ,  2H097LA10 ,  2H097LA11 ,  2H097LA17 ,  5F046CB05 ,  5F046CB23 ,  5F046CB27 ,  5F046DA30

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

• パターン描画装置およびパターン描画方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2004-334479   Applicant：大日本スクリーン製造株式会社