パターン描画装置およびパターン描画方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松阪正弘
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004334479
Publication number (International publication number)：2006145745
Application date： Nov. 18, 2004
Publication date： Jun. 08, 2006
Summary：

【課題】感光材料上に複数の種類の規則的なパターンを容易に描画する。【解決手段】パターン描画装置では、マスク部51のマスク面に、複数の第1開口パターン要素511と第1開口パターン要素511とは形状が異なる複数の第2開口パターン要素512とが形成され、マスク移動機構53によりマスク部51がマスク面に沿って移動することにより、パルスレーザからのパルス光による照明対象が、複数の第1開口パターン要素511と複数の第2開口パターン要素512との間で切り替えられる。そして、ステージ移動機構により感光材料上の光の照射位置が走査方向へと感光材料に対して相対的にかつ連続的に移動しつつパルス光によりパターンの描画が行われる。これにより、パターン描画装置では、マスク部51を入れ替えることなく、感光材料上に複数の種類の規則的なパターンを容易に描画することができる。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

基板上の感光材料に規則的なパターンを描画するパターン描画装置であって、光源と、前記光源からの光が導かれる基板を保持する保持部と、前記光源からの光の光路上に配置され、第1開口と前記第1開口とは形状が異なる第2開口とを有するマスク部と、前記光路に対して相対的に前記マスク部をマスク面に沿って移動することにより、前記マスク部上における前記光源からの光による照明対象を前記第1開口と前記第2開口との間で切り替えるマスク移動機構と、前記マスク部を通過した光が照射される感光材料上の光の照射位置を、所定の走査方向へと前記感光材料に対して相対的にかつ連続的に移動する走査機構と、を備えることを特徴とするパターン描画装置。

IPC (2)：

G03F 7/20 , H01L 21/027

FI (2)：

G03F7/20 505 , H01L21/30 515F

F-Term (12)：

2H097AB03 , 2H097AB05 , 2H097AB07 , 2H097CA17 , 2H097GB01 , 2H097LA12 , 5F046BA05 , 5F046CA03 , 5F046CB17 , 5F046CC01 , 5F046CC02 , 5F046CC13

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (4)

走査式描画装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平3-264739 Applicant：旭光学工業株式会社
投影露光装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-065669 Applicant：株式会社ニコン
加工装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-299504 Applicant：松下電器産業株式会社

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Cited by examiner (8)

投影露光装置、投影露光方法、被露光部材の製造方法、被露光部材および半導体デバイス
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-025086 Applicant：キヤノン株式会社
露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-101782 Applicant：株式会社ニコン
露光方法及び装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-272566 Applicant：株式会社ニコン

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