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J-GLOBAL ID：200903003704279846
走査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法
山田 篤
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根岸 勉
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小林 利治
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渡部 紀夫
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Applicant, Patent owner：
日本電子株式会社
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Agent (1)： 井島 藤治 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999204266
Publication number (International publication number)：2001035433
Application date： Jul. 19, 1999
Publication date： Feb. 09, 2001
Summary：
【要約】【課題】 機械的な回転中心と画像中心が一致していない場合にも、回転によって像の逃げが生じない走査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法を実現する。【解決手段】 機械的な回転中心と画像中心が一致していない場合に機械的な回転を行っても、常に像の中心位置は変化しないように動作させる。このためには、機械的なステージの回転を行った場合、Xステージを駆動してけX方向に移動させ、Yステージを駆動してY方向にステージを移動させる。更に、機械的な回転中心と観察画像中心との間の距離LとX,Yステージの移動速度をリンクさせ、距離Lの値にかかわらず、観察画面上での回転速度を一定に見えるようにする。実際には、Lの値が大きくなるほどX,Yステージの移動速度を早く制御する。
Claim 1：
機械的なX-Y移動、回転ができるステージ上の試料に荷電粒子ビームを照射すると共に、試料上で荷電粒子ビームを2次元的に走査し、試料への荷電粒子ビームの照射によって得られた信号に基づき試料の走査像を表示するようにした走査型荷電粒子ビーム装置において、回転ステージを回転させる場合、観察像の中心位置と機械的な回転中心との間の距離Lと回転角度に応じてX-Yステージを移動させると共に、距離Lの長さに応じてX-Yステージの移動速度を制御し、機械的な回転により常に像が観察画面の中心で回転するようにした走査型荷電粒子ビーム装置における試料像観察方法。
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (5)：
Patent cited by the Patent：
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