真空装置への高周波電力供給方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：坂間暁 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994005687
Publication number (International publication number)：1995211649
Application date： Jan. 24, 1994
Publication date： Aug. 11, 1995
Summary：

【要約】【目的】効率よく真空装置へ高周波電力を供給する真空装置への高周波電力供給方法を得る。【構成】真空容器内に設置された、高周波電極20と、同電極の放電によって薄膜を成長させるための基板7と、同基板を加熱するヒータ11と、真空容器内にガスを供給するガス供給ボックス19を有する真空装置において、高周波電源16からマッチングボックス13を介して供給される高周波電力を、同軸ケーブル12、17、17aを用いて誘導結合型の上記高周波電極に供給する真空装置への高周波電力給電方法。

Claim (excerpt)：

真空容器内に設置された、高周波電極と、同電極の放電によって薄膜を成長させるための基板と、同基板を加熱するヒータと、真空容器内にガスを供給するガス供給ボックスとを有する真空装置において、高周波電源からマッチングボックスを介して供給される高周波電力を、同軸ケーブルを用いて誘導結合型の上記高周波電極に供給することを特徴とする真空装置への高周波電力給電方法。

IPC (7)：

H01L 21/205 , B01J 3/00 , C23C 14/32 , H01B 11/18 , H01L 21/3065 , H05B 6/04 321 , C30B 25/02

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

プラズマ処理装置及びそのクリーニング方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-179512 Applicant：東京エレクトロン株式会社
プラズマ処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-231388 Applicant：株式会社神戸製鋼所

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