磁気転写方法、磁気記録媒体、及び磁気記録装置

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：松浦憲三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004299161
Publication number (International publication number)：2006114104
Application date： Oct. 13, 2004
Publication date： Apr. 27, 2006
Summary：

【課題】磁気転写を行う際の、転写用磁界の印加方向の許容範囲を規定して正確な磁化パターンの転写を行う。【解決手段】初期直流磁化された被転写用ディスクと、磁性層48の厚さtと突起状パターンの円周方向長さbとの比t/bが0.5〜4.0である磁性層パターンを有するマスターディスク46とを密着させ、被転写用ディスクとマスターディスクの円周方向に磁界を加え、マスターディスクの磁気パターンを被転写用ディスクに転写させる際に、円周方向の磁界のディスク表面に対し垂直な磁界強度Hvとディスク表面に対し水平な磁界強度Hhとの比Hv/Hhが0.629-0.0571×t/b以下になるようにして磁気転写を行う。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

被転写用ディスクの円周方向に磁界を加え、該被転写用ディスクを円周方向に初期直流磁化させる初期磁化工程と、初期直流磁化された前記被転写用ディスクと、その表面に形成された多数の突起状磁性層パターンであって、該磁性層の厚さtと該突起状パターンの円周方向長さbとの比t/bが0.5〜4.0である磁性層パターンを有するマスターディスクとを密着させる密着工程と、磁界生成手段を設け、前記被転写用ディスクと前記マスターディスクの円周方向に磁界を加え、前記マスターディスクの磁気パターンを前記被転写用ディスクに転写させる際に、前記円周方向の磁界のディスク表面に対し垂直な磁界強度Hvとディスク表面に対し水平な磁界強度Hhとの比Hv/Hhが0.629-0.0571×t/b以下になるようにして磁気転写を行う磁気転写工程と、を備えることを特徴とする磁気転写方法。

IPC (2)：

G11B 5/86 , G11B 5/65

FI (3)：

G11B5/86 101B , G11B5/86 C , G11B5/65

F-Term (4)：

5D006BB07 , 5D006DA03 , 5D006EA00 , 5D006FA00

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

磁気転写方法および磁気転写装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-047809 Applicant：富士写真フイルム株式会社

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