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J-GLOBAL ID:200903003991946530
タングステンの蝕刻抑制剤を含むポリシング組成物
Inventor:
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
石田 敬 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998212514
Publication number (International publication number):1999116948
Application date: Jul. 28, 1998
Publication date: Apr. 27, 1999
Summary:
【要約】本発明は、タングステンを蝕刻できる成分及び少なくとも一つのタングステンの蝕刻抑制剤を含む化学機械的ポリシング組成物並びにスラリーに関する。また、本発明はこの組成物及びスラリーを使用してタングステンを含む基板を洗浄する方法に関する。
Claim (excerpt):
タングステンを蝕刻できる化合物及び少なくとも一つのタングステンの蝕刻抑制剤を含む化学機械的ポリシング組成物。
IPC (5):
C09K 13/04
, B24B 37/00
, C09K 15/20
, H01L 21/304 622
, H01L 21/306
FI (5):
C09K 13/04
, B24B 37/00 H
, C09K 15/20
, H01L 21/304 622 D
, H01L 21/306 M
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (2)
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研磨剤および研磨方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-055290
Applicant:株式会社東芝
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特表平4-501138
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