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J-GLOBAL ID:200903004120540859

復水処理剤

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 福島 三雄 ,  小山 方宜 ,  向江 正幸 ,  高崎 真行
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006346449
Publication number (International publication number):2008156700
Application date: Dec. 22, 2006
Publication date: Jul. 10, 2008
Summary:
【課題】 ボイラ装置に発生する腐食を抑制するにあたり、皮膜形成剤とpH調整剤を適正量供給することができる1液型の復水処理剤を提供すること。【解決手段】 給水を加熱して蒸気を生成するボイラ2と、このボイラ2へ給水を供給する給水部3と、前記ボイラ2で生成した蒸気を負荷機器4へ供給する蒸気供給部5と、前記負荷機器4で使用した蒸気を復水として前記給水部3へ供給する復水供給部6とを備えたボイラ装置1に供給して、前記ボイラ装置1に発生する腐食を抑制するために用いられる復水処理剤であって、炭素数10〜18の脂肪酸またはそのアミン塩と、中和性アミンとを含有する。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
給水を加熱して蒸気を生成するボイラと、このボイラへ給水を供給する給水部と、前記ボイラで生成した蒸気を負荷機器へ供給する蒸気供給部と、前記負荷機器で使用した蒸気を復水として前記給水部へ供給する復水供給部とを備えたボイラ装置に供給して、前記ボイラ装置に発生する腐食を抑制するために用いられる復水処理剤であって、 炭素数10〜18の脂肪酸またはそのアミン塩と、中和性アミンとを含有することを特徴とする復水処理剤。
IPC (4):
C23F 11/10 ,  F22B 37/52 ,  C02F 1/66 ,  C23F 11/14
FI (6):
C23F11/10 ,  F22B37/52 Z ,  C02F1/66 510G ,  C02F1/66 521A ,  C02F1/66 530C ,  C23F11/14 101
F-Term (6):
4K062BB01 ,  4K062BB04 ,  4K062BB12 ,  4K062BC22 ,  4K062FA06 ,  4K062GA01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)

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