Pat

J-GLOBAL ID：200903004141266927

洗浄剤組成物

Inventor： 野田 章 ,  松下由紀子 ,  中間康成
Applicant, Patent owner： 株式会社資生堂
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992089450
Publication number (International publication number)：1993255696
Application date： Mar. 13, 1992
Publication date： Oct. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】系の安定性と使用中の起泡性に優れ、使用後の髪や肌になめらかさを付与するのに優れた洗浄剤組成物を提供することを目的とする。【構成】陰イオン性界面活性剤(A) と、両性界面活性剤及び/又は半極性界面活性剤(B) と、高級脂肪酸(C) と、シリコーン誘導体(D) とを配合し、高級脂肪酸(C) と、陰イオン界面活性剤及び/又は半極性界面活性剤(B) の合計量(A)+(B) との配合比 (C)/(A)+(B) が0.002〜1であり、陰イオン界面活性剤及び/又は半極性界面活性剤(B) の合計配合量(A)+(B) が2〜50重量%、高級脂肪酸(C) の配合量が0.1〜5重量%、シリコーン誘導体(D) の配合量が0.1〜25重量%である洗浄剤組成物。

Claim (excerpt)：

陰イオン性界面活性剤(A) と、両性界面活性剤及び/又は半極性界面活性剤(B) と、一般式1:【化1】(R1 は平均炭素数7〜25の直鎖又は分岐鎖又は水酸基を有する飽和、不飽和炭化水素である。)で表される高級脂肪酸(C) と、シリコーン誘導体(D) とを配合することを特徴とする洗浄剤組成物。

IPC (8)：

C11D 1/94 ,  A61K 7/075 ,  A61K 7/50 ,  C11D 1:90 ,  C11D 1:29 ,  C11D 1:75 ,  C11D 1:10 ,  C11D 3:37

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

• 特開平3-115498
  
• 特開平4-033999
  
• シャンプー組成物およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-014099   Applicant：ヘレンカーチス.インコーポレイテッド
• ヘアーコンディショニングシャンプー組成物およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-014098   Applicant：ヘレンカーチス.インコーポレイテッド
• 皮膚洗浄料
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-276730   Applicant：株式会社資生堂

Cited by examiner (4)

• シャンプー組成物およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-014099   Applicant：ヘレンカーチス.インコーポレイテッド
• ヘアーコンディショニングシャンプー組成物およびその製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-014098   Applicant：ヘレンカーチス.インコーポレイテッド
• 特開平3-115498
  
• 特開平4-033999