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J-GLOBAL ID:200903004190225152

レーザ光照射装置およびレーザ光照射方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (4): 長谷川 芳樹 ,  寺崎 史朗 ,  石田 悟 ,  柴田 昌聰
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006294684
Publication number (International publication number):2008112855
Application date: Oct. 30, 2006
Publication date: May. 15, 2008
Summary:
【課題】レーザ光照射の途中でレーザ光の波面形状が変化した場合においてもレーザ光の集光スポット径を小さく維持することができるレーザ光照射装置等を提供する。【解決手段】レーザ光照射装置1は、レーザ光発生部10、波面形状調整部20、分岐部30、集光部40、波面形状取得部50、制御部61、点光源70および反射鏡80を備える。点光源70から出力されて集光部40を経た基準レーザ光LSの波面形状が波面形状取得部50により取得される。レーザ光発生部10から出力されたレーザ光L0が分岐部30により2分岐された第2レーザ光L2の波面形状が波面形状取得部50により取得される。基準レーザ光LSの波面形状に対して第2レーザ光L2の波面形状の凹凸が反転関係になるように、波面形状調整部20における反射の際にレーザ光L0に与えられる付加歪みが制御されて、当該反射後のレーザ光L0の波面形状が調整される。【選択図】図1
Claim (excerpt):
レーザ光を出力するレーザ光発生部と、 このレーザ光発生部から出力されたレーザ光の波面形状を調整する波面形状調整部と、 この波面形状調整部により波面形状が調整された後のレーザ光を2分岐して第1レーザ光および第2レーザ光として出力する分岐部と、 この分岐部から出力された第1レーザ光を集光して所定位置に集光照射する集光部と、 光出射位置が前記所定位置と一致するように配置され、前記光出射位置から基準レーザ光を出力する点光源と、 前記点光源から出力されて前記集光部を経た基準レーザ光の波面形状を取得するとともに、前記分岐部から出力された前記第2レーザ光の波面形状を取得する波面形状取得部と、 前記波面形状取得部により取得された前記基準レーザ光の波面形状および前記第2レーザ光の波面形状に基づいて、前記波面形状調整部におけるレーザ光の波面形状の調整を制御する制御部と、 を備えることを特徴とするレーザ光照射装置。
IPC (3):
H01S 3/13 ,  B23K 26/067 ,  H01S 3/00
FI (3):
H01S3/13 ,  B23K26/067 ,  H01S3/00 B
F-Term (10):
4E068CA01 ,  4E068CD03 ,  5F172AE06 ,  5F172AF07 ,  5F172NN04 ,  5F172NP02 ,  5F172NR06 ,  5F172NR12 ,  5F172NR30 ,  5F172ZZ01
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
  • 高速粒子発生方法及び高速粒子発生装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2002-370441   Applicant:浜松ホトニクス株式会社
  • 光学素子加工装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平10-120913   Applicant:ナルックス株式会社, ソニー・テクトロニクス株式会社
  • 補償光学用参照点光源の作成法
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願2003-092758   Applicant:独立行政法人産業技術総合研究所
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